[发明专利]显示装置有效

专利信息
申请号: 202110994985.4 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN113745266B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 张延任;王彦凯 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/48;H01L33/60
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种显示装置,包括基板、多条扫描线、多条数据线、多个发光元件、第一降反射层及第二降反射层。扫描线及数据线分别沿第一方向与第二方向延伸。发光元件被扫描线及数据线围绕。第一降反射层覆盖扫描线和数据线,且具有多个开口,其中多个开口暴露出发光元件。在显示装置的俯视图中,第二降反射层至少与第一降反射层重叠。发光元件的发光波长不同于第二降反射层的吸收波长。第一降反射层的吸收波长不同于第二降反射层的吸收波长。

技术领域

本发明是有关于一种显示装置,且特别是有关于一种具有至少两种降反射层的显示装置。

背景技术

微型发光二极管(Micro-Light Emitting Diode,mLED)具有诸如寿命长、体积小、高抗震性、低热产生及低功率消耗等优点,在目前也已被应用于平板及小型尺寸的显示装置。目前采用微型发光二极管的显示面板中金属走线外露无遮蔽,易导致显示面板存在高反射率的问题。

一般解决方式例如为:实施抗反射表面处理(Anti-Reflect surface treatment)以形成一抗反射膜于显示面板上,如此可降低约4%的反射率;或者,将一圆偏光片(circular polarizer)配置于显示面板上,虽可降低约95%的反射率,然圆偏光片会遮挡住设置有发光元件的区域(即显示面板的发光区),使得显示面板的穿透率下降约60%;或者,形成黑矩阵(Black matrix,BM)于金属走线上,然目前形成黑矩阵的制程受限于制程能力而无法大面积完全地覆盖于金属走线上,且若采用圆偏光片遮蔽露出的金属走线时,仍存在上述显示面板的穿透率下降约60%的问题。因此如何设计出同时兼具低反射率及高穿透率的显示装置,已成为本领域研究人员的一大挑战。

发明内容

本发明提供一种显示装置,其设计可有助于在降低反射率的同时,也可避免穿透率下降及维持色相等色彩特性优异,进而提升显示装置的显示效果。

本发明的至少一实施例提供一种显示装置,包括基板、多条扫描线、多条数据线、多个发光元件、第一降反射层及第二降反射层。扫描线配置于基板上,且沿第一方向延伸。数据线配置于基板上,且沿第二方向延伸,其中第一方向与第二方向相交。发光元件阵列排列于基板上。每一发光元件被多条扫描线的相邻两条及多条数据线的相邻两条围绕,且发光元件与多条扫描线的其中一者和多条数据线的其中一者电性连接。第一降反射层覆盖多条扫描线和多条数据线,且具有多个开口,其中开口暴露出发光元件。第二降反射层配置于基板上。在显示装置的俯视图中,第二降反射层至少与第一降反射层重叠。发光元件的发光波长不同于第二降反射层的吸收波长,第一降反射层的吸收波长不同于第二降反射层的吸收波长。

在本发明的一实施例中,上述第一降反射层的颜色包括棕色,上述第二降反射层的颜色包括偏蓝色。

在本发明的一实施例中,经第一降反射层反射的反射光在D65光源条件下的国际照明委员会(Commission Internationale del’Eclairage,CIE)色度坐标(x,y)满足下述式(1)与式(2):

0.350≦x≦0.400    式(1)

0.350≦y≦0.400    式(2)。

在本发明的一实施例中,经第一降反射层反射且穿透第二降反射层的反射光在D65光源条件下的CIE色度坐标(x,y)满足下述式(3)与式(4):

0.280≦x≦0.350    式(3)

0.280≦y≦0.350    式(4)。

在本发明的一实施例中,上述第二降反射层的吸收波长为590nm~600nm,且第二降反射层在波长为590nm~600nm的光穿透率为0.30以下。

在本发明的一实施例中,上述第二降反射层全面性地覆盖于基板上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110994985.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top