[发明专利]一种基于氢氧焰加热的自变形芯光纤的制备方法有效
申请号: | 202110997851.8 | 申请日: | 2021-08-27 |
公开(公告)号: | CN113860727B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 马一巍;易杨;赵敏;李晓飏;苏春博;孙静;耿涛;孙伟民;苑立波 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工程大学 |
主分类号: | C03B37/15 | 分类号: | C03B37/15;C03B37/16;C03B37/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 氢氧焰 加热 变形 光纤 制备 方法 | ||
本发明提出了一种基于氢氧焰加热的自变形芯光纤的制备方法,包括如下步骤:首先对多模光纤Multimode Fiber,简称MMF,进行预处理;然后通过电脑软件设置CO2雕刻激光器刻蚀程序的功能参数并重复运行刻蚀程序直至刻蚀区达到合适深度且刻蚀区表面光洁;完成对光纤包层某一面的刻蚀后,调节可扭转夹具,使光纤整体分别旋转90°、180°、270°,将上述预制备的矩形包层MMF放置在氢氧火焰加热装置上,运行加热程序,MMF被刻蚀成长方柱的包层在氢氧焰的加热下熔融变形,且在张力作用下刻蚀区域的物质重新流动分布,使得矩形包层重新恢复成圆形,从而制备出自变形异形芯光纤。
技术领域
本发明属于光纤制备领域,涉及了一种基于氢氧火焰加热的异形芯光纤的制备方法。
背景技术
在天文物理学研究中,提高视向速度测量精度及仪器稳定性具有重要意义。实现每秒厘米量级的视向速度测量精度,关键是增强光谱仪探测系统中光谱线的稳定性,目前影响光谱线精度的主要因素有光谱仪照明稳定性,星光信号稳定性及定标信号稳定性。视向速度测量系统主要通过光纤将望远镜采集的光谱信息传输到光谱仪中,相比透镜传输,圆形光纤不仅简化了整个探测系统结构,同时多模光纤具有的扰模特性也增强了光束传播的稳定性。尽管如此,圆形光纤虽然在角方向上具有较好的扰模特性,但在径向上扰模效果较差,经过光纤传输后的星光信号受到大气视宁度及入射过程中导向误差和离焦调制的影响,光纤出射场表现出近场质心的变化和远场光强分布的不均匀。光纤出射后由于调制引起的质心或光强变化经光谱仪系统,在谱线采集后引起谱线漂移,该偏移误差与星光探测多普勒频移信号相互影响,从而限制了视向速度测量精度的提高。
因此通过提高光纤传输系统的扰模增益以增强出射场稳定性,是目前亟需解决的重要课题。为实现此要求,目前的方法包括透镜扰模法、机械振动法和积分球法。但这些方法存在能量损失大、结构不稳定等缺点,不能满足高精度视向速度测量技术探测周期长的要求。通过改变光纤截面形状以提高扰模特性,是目前适用于高精度长周期视向速度测量的最有前景的扰模方法之一。
现有八边形光纤或矩形光纤进行扰模时,其需要连接圆形光纤来进行光的入射和出射,而现有技术无法做到两种不同纤芯形状光纤的完全适配,因此在传输效率上会有一定程度的降低,这对进行后续测量是很不利的。而自变形异形芯光纤,采用绝热锥过度,使圆形纤芯平稳过度到矩形芯或八边形芯光纤,此类锥形微光纤的锥形过渡区域较为平缓。锥形过度区域的缓慢变化导致局域锥角较小,锥半径的相对局部变化也较小。缓变锥直径变化缓慢,光纤对光的束缚力较强。光传输的能量主要由纤芯基模携带,从光纤中泄露出来的光也只占极少的比例,因此在于外界环境的交互中损失的能量也大大降低,基本可以实现微损耗的光传输,因此提高了传输效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新型四边形扰模光纤的制备方法,来解决上述现有一些技术在实际应用中的缺陷,降低了光在光纤中传输的能量损耗,有效的提高了光的传输效率。
本发明的技术方案是:
首先对光纤进行预处理,取一段多模光纤(Multimode Fiber,MMF),将MMF中间大约10cm左右的部分去掉涂覆层,露出裸光纤,并使裸光纤部分放置在二氧化碳激光器的焦平面的中心处,将MMF左右两端固定在三维位移夹具上,通过调节x轴位移台,对光纤轴向施加一个微小的张力,使其保持水平拉直状态。。
然后通过电脑软件设置CO2雕刻激光器刻蚀程序的功能参数如:蚀刻线距离d和蚀刻线个数N,运行程序,让激光器工作一段时间直到稳定。将上述固定在三维位移台间的裸光纤放置在刻蚀激光器下,设定CO2激光器的扫描速度和频率,运行一次刻蚀程序,并在侧面观察系统中对光纤被刻蚀区域进行观察,重复运行刻蚀程序直至刻蚀区达到合适深度且刻蚀区表面光洁。
完成对光纤包层某一面的刻蚀后,调节可扭转夹具,使光纤整体分别旋转90°、180°、 270°,重复运行刻蚀程序使刻蚀区达到与第一次刻蚀面相同的深度,最终光纤的包层被刻蚀区域由圆柱体变为长方体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工程大学,未经哈尔滨工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110997851.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种网络配线装置
- 下一篇:一种建筑垃圾清路装置