[发明专利]内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法

说明书

本发明公开了一种内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法，包括如下步骤：a.准备制备原料；b.利用丙酮和丁内酯对正性光刻胶AZ9260进行稀释；c.将得到的稀释后的光刻胶溶液均匀喷涂在柱面棱镜内部得到样件；d.将得到的样件放入恒温烘箱；e.烘烤后对样件进行刻蚀；f.刻蚀后利用ZX‑238显影液对样件进行显影；g.然后将显影后的样件放入超纯水中冲洗，再将样件表面水分吹干；h.吹干样件后将其放置到导电膜镀膜机中镀制金属膜，金属膜材料为铬和银合金；i.再将镀膜后得到的样件放入N‑甲基吡咯烷酮溶液中，恒温超声振荡；j.最后步骤i中得到的样件放置到导电膜镀膜机中镀制电极。解决现有传统的接收窗口电磁屏蔽金属网栅无法在有限制的空间内布设的问题。

技术领域

本发明涉及电磁屏蔽技术领域，特别是一种内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法。

背景技术

为了适应现代日益复杂的电磁环境，提高装备在复杂电磁环境下的生存能力和突防作战能力。在其红外光学系统接收窗口中，必须采取抗电磁干扰措施，确保产品的跟踪和制导精度。在红外光学系统接收窗口制备金属网栅是解决这一问题的有效方法，其原理是在接收窗口上制备一层既能对工作波段的红外辐射高效透过，又能高效屏蔽电磁波的金属网栅，减小外部电磁波对产品中各种元件的影响，也防止内部的红外信息泄露。通过控制金属网栅的线宽、周期和线条厚度，可以得到良好工作波段高效透过和抑制波段高效屏蔽效能。

为了制备简单，传统的接收窗口电磁屏蔽金属网栅制备在暴露于外部环境的凸起表面，制备过程的喷胶、刻蚀工艺不受空间限制。而面对强日照、雨蚀、砂蚀、高低温和复杂的电磁对抗等极端环境时，会引起窗口凸起外表面膜层和网栅的化学变性、断裂或脱落，致使接收窗口透过率降低、自发辐射及电磁干扰严重，降低窗口性能等。此时红外光学系统要实现跟踪和精确制导将非常困难，甚至还会造成目标的偏离、丢失。

本发明涉及了一种内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法，通过改造喷胶头、激光直写探头和工装夹具等研究内凹面限制空间的均匀喷胶、均匀制备金属网栅工艺；研究金属膜蒸镀参数对膜层厚度、牢固度、均匀性和光谱特性的影响，获得满足指标要求的金属膜和电极；研究非光刻区域金属膜层难剥离问题，使金属网栅不断裂、不脱落。

实现电磁屏蔽金属网栅的内置，提高装备接收窗口的使用寿命和红外成像跟踪及抗电磁干扰能力。

发明内容

本发明的目的在于提供一种内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法，解决现有传统的接收窗口电磁屏蔽金属网栅无法在有限制的空间内布设的问题。

为解决上述的技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法，包括如下步骤：a.准备制备原料，准备的原料包括正性光刻胶AZ9260、丙酮、丁内酯、ZX-238显影液、铬、银合金、N-甲基吡咯烷酮溶液；b.利用丙酮和丁内酯对正性光刻胶AZ9260进行稀释，得到稀释后的光刻胶溶液；c. 将得到的稀释后的光刻胶溶液均匀喷涂在事先准备好的柱面棱镜内部得到样件，喷涂的厚度为5~6µm；d.将步骤c中得到的样件放入恒温烘箱，以104℃-106℃恒温烘烤5-10分钟；e.烘烤后采用激光直写曝光技术对样件进行刻蚀；f. 刻蚀后利用ZX-238显影液对样件进行显影，显影时间50~70秒，显影后得到满足要求的沟槽线条线宽12 µm，周期400 µm；g.然后将显影后的样件放入超纯水中冲洗10~15秒，再用压缩空气将样件表面水分吹干；h.吹干样件后将其放置到导电膜镀膜机中镀制金属膜，金属膜材料为铬和银合金，膜系结构为：基底(铬/银合金/铬)空气；i. 将N-甲基吡咯烷酮溶液水浴加热到60℃，再将镀膜后得到的样件放入N-甲基吡咯烷酮溶液中，恒温超声振荡20±5分钟；j.最后步骤i中得到的样件放置到导电膜镀膜机中镀制电极，镀制后得到成品。