[发明专利]一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置及方法

权利要求书

1.一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，其特征在于：实现液晶玻璃基板研磨残留清洗方法所依托的清洗装置包括以下内容：清洗装置包括承载基盘（1）、玻璃基板（2）、位移驱动机构（4）和玻璃基板（2）固定放置在承载基盘（1）上，所述位移驱动机构（4）输出连接有位移支架（5），所述位移支架（5）一端安装有主安装基板（6）；所述主安装基板（6）的下侧嵌设有喷淋机构（7），所述主安装基板（6）的下侧嵌设有位于喷淋机构（7）两侧的侧位风刀（9），所述喷淋机构（7）上配置有若干均匀分布的高压喷雾嘴（8），所述主安装基板（6）的下侧固定安装有位于喷淋机构（7）、侧位风刀（9）外围的外围防护圈板（10）；所述承载基盘（1）上设置有一组位于玻璃基板（2）外侧边缘的导向凸起（3）；所述主安装基板（6）的下侧嵌设有用于传感检测导向凸起（3）的校准传感器（11）；所述主安装基板（6）的两侧端安装有边位安装架（12），两个边位安装架（12）之间安装有位于主安装基板（6）一侧的第一边位板（13）和位于主安装基板（6）另一侧的第二边位板（15），所述第一边位板（13）的下侧嵌入安装有若干光电传感器（14），所述第二边位板（15）的下侧嵌入安装有若干超声波传感器（16）；液晶玻璃基板研磨残留清洗方法包括以下内容：㈠导向移动定位：承载基盘（1）转动到位后，主安装基板（6）上的两个校准传感器（11）同时检测到的距离都为凸位点距离时，控制系统判定当前承载基盘（1）处于“正位”；㈡顺向超声检测：控制系统驱动位移驱动机构（4），带动第二边位板（15）上的超声波传感器（16）顺向运动，超声波传感器（16）顺向扫略玻璃基板（2）研磨面，并将扫略检测到的信息传输至控制系统；㈢逆向高压清洗：顺向超声检测结束后，控制系统根据超声检测到的玻璃基板（2）表面的研磨残留物密度分布，驱动位移驱动机构（4）带动主安装基板（6）逆向运动，逆向路径式驱控高压喷雾嘴（8）对玻璃基板（2）研磨面进行冲洗；㈣顺向风刀风干：高压喷雾嘴（8）逆向清洗结束后，位移驱动机构（4）驱动主安装基板（6）再次顺向移动，主安装基板（6）上的侧位风刀（9）在顺向移动过程中全程开启，对玻璃基板（2）研磨面进行风干；超声波传感器（16）同步开启，对已经顺向风干的玻璃基板（2）研磨面进行二次检测，若检测到玻璃基板（2）研磨面上任意一位置点出现异常，位移驱动机构（4）将位置参数传输至控制系统，待完全风干、检测完玻璃基板（2），对玻璃基板（2）上的异常位置点进行二次高压喷雾嘴（8）清洗，清洗后再次风干；㈤最终洁净检测：超声波传感器（16）检测玻璃基板研磨面无异常后，位移驱动机构（4）逆向带动主安装基板（6）运动，同时开启光电传感器（14），光电传感器（14）逆向对玻璃基板（2）进行最终光滑度检测。

2.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，其特征在于：所述校准传感器（11）位于外围防护圈板（10）的外围，所述校准传感器（11）采用光电距离传感器，所述导向凸起（3）的凸起高度尺寸小于外围防护圈板（10）的高度尺寸。

3.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，其特征在于：所述高压喷雾嘴（8）呈横向“一”字形排列，所述侧位风刀（9）与喷淋机构（7）平行设置。

4.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，其特征在于：所述主安装基板（6）的两侧端都开设有边位安装缺槽（17），所述边位安装架（12）的中部位置卡合安装在主安装基板（6）的边位安装缺槽（17）位置处。

5.根据权利要求4所述的一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，其特征在于：所述主安装基板（6）侧端的两侧面都开设有边位安装螺孔（18），所述边位安装架（12）上开设有与边位安装螺孔（18）相配合的边架嵌入安装孔（19），同侧位置的边架嵌入安装孔（19）、边位安装螺孔（18）上安装有嵌入式内六角槽螺栓。

6.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，其特征在于：所述位移驱动机构（4）内设置有位置编码器或行程开关器，所述第一边位板（13）上的光电传感器（14）、第二边位板（15）上的超声波传感器（16）的位移范围都覆盖承载基盘（1）上的玻璃基板（2）的放置范围。