[发明专利]一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置及方法有效
申请号: | 202111004494.7 | 申请日: | 2021-08-30 |
公开(公告)号: | CN113770143B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 梁超;程秀文 | 申请(专利权)人: | 蚌埠高华电子股份有限公司 |
主分类号: | B08B11/04 | 分类号: | B08B11/04;B08B3/02;B08B5/02;B08B13/00;F26B21/00 |
代理公司: | 合肥鸿知运知识产权代理事务所(普通合伙) 34180 | 代理人: | 王金良 |
地址: | 233000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液晶 玻璃 研磨 残留 清洗 装置 方法 | ||
本发明公开了一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置及方法,涉及液晶玻璃加工技术领域。在本发明中:位移驱动机构输出连接有位移支架,位移支架一端安装有主安装基板。主安装基板的下侧嵌设有位于喷淋机构两侧的侧位风刀,主安装基板的下侧固定安装有位于喷淋机构、侧位风刀外围的外围防护圈板。两个边位安装架之间安装有位于主安装基板一侧的第一边位板和位于主安装基板另一侧的第二边位板,第一边位板的下侧嵌入安装有若干光电传感器,第二边位板的下侧嵌入安装有若干超声波传感器。本发明通过采用高压喷雾冲洗、风刀风干及洁净检测一体式的清洗装置和驱动控制,自动化程度高,需要切换的工艺设备少,用水量少、需要后续处理的水量少。
技术领域
本发明属于液晶玻璃加工技术领域,特别是涉及一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置及方法。
背景技术
液晶玻璃基板在减薄工艺中,研磨后会有大量的研磨液、研磨粉残留在液晶玻璃的研磨面上,研磨后玻璃表面残留抛光粉严重,后制程清洁难度大。
现有的自动清洗方式中,一般都是直接对玻璃表面进行冲洗,没有针对性,容易遗漏一些区域没有清洗干净,而且产生的大量冲洗水还需要循环利用或者处理后再排出(研磨粉CeO2有毒,需要对冲洗液进行过滤、处理),水资源利用率低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置及方法,通过采用高压喷雾冲洗、风刀风干及洁净检测一体式的清洗装置和驱动控制,自动化程度高,需要切换的工艺设备少,用水量少、需要后续处理的水量少。
为解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
本发明为一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置,清洗装置包括位移驱动机构,位移驱动机构输出连接有位移支架,位移支架一端安装有主安装基板。主安装基板的下侧嵌设有喷淋机构,主安装基板的下侧嵌设有位于喷淋机构两侧的侧位风刀,主安装基板的下侧固定安装有位于喷淋机构、侧位风刀外围的外围防护圈板。主安装基板的两侧端安装有边位安装架,两个边位安装架之间安装有位于主安装基板一侧的第一边位板和位于主安装基板另一侧的第二边位板,第一边位板的下侧嵌入安装有若干光电传感器,第二边位板的下侧嵌入安装有若干超声波传感器。
作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案:承载基盘上设置有一组位于玻璃基板外侧边缘的导向凸起;主安装基板的下侧嵌设有用于传感检测导向凸起的校准传感器,校准传感器位于外围防护圈板的外围。
作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案:校准传感器采用光电距离传感器,导向凸起的凸起高度尺寸小于外围防护圈板的高度尺寸。
作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案:喷淋机构上配置有若干均匀分布的高压喷雾嘴,高压喷雾嘴呈横向“一”字形排列,侧位风刀与喷淋机构平行设置。
作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案:主安装基板的两侧端都开设有边位安装缺槽,边位安装架的中部位置卡合安装在主安装基板的边位安装缺槽位置处。
作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案:主安装基板侧端的两侧面都开设有边位安装螺孔,边位安装架上开设有与边位安装螺孔相配合的边架嵌入安装孔,同侧位置的边架嵌入安装孔、边位安装螺孔上安装有嵌入式内六角槽螺栓。
作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案:位移驱动机构内设置有位置编码器或行程开关器,第一边位板上的光电传感器、第二边位板上的超声波传感器的位移范围都覆盖承载基盘上的玻璃基板的放置范围。
本发明涉及一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法,包括以下内容:
㈠导向移动定位
承载基盘转动到位后,主安装基板上的两个校准传感器同时检测到的距离都为凸位点距离时,控制系统判定当前承载基盘处于“正位”。
㈡顺向超声检测
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