[发明专利]一种石英透镜的移除方法

说明书

本发明提供一种石英透镜的移除方法，所述石英透镜设置于一反应腔内，所述反应腔内还设置有光源，所述光源设置于所述石英透镜上方，其特征在于，包括：将所述光源取出所述反应腔；提供保护罩，所述保护罩为一端开口的腔体，所述保护罩的顶面具有贯穿的通孔，将所述保护罩盖在所述石英透镜上，所述通孔露出所述石英透镜的部分顶面；以及，利用真空吸盘吸附所述石英透镜露出的顶面，以将所述石英透镜移出所述反应腔，避免所述石英透镜在移动过程中与外界设备磕碰造成损伤。

技术领域

本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种石英透镜的移除方法。

背景技术

由于石英透镜具有良好的力学性质、热物理性质、光学特性及化学稳定性，并能透过紫外线，在高温仪器及光学设备中得到了广泛的应用。在实现高应力的氮化硅薄膜沉积时，需要借助光增强型化学气相沉积设备以形成光增强薄膜，在对光增强型化学气相沉积设备的反应腔进行检修时，需要将反应腔中的光源和石英透镜移除，但石英透镜的脆性较差，在转移的过程中，石英透镜很容易与反应腔内壁或其它设备发生碰撞，导致边缘受损，从而无法继续使用，现有技术中没有能解决该技术的方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种石英透镜的移除方法，以保护石英透镜在移动的过程中边缘不受损伤。

为了达到上述目的，本发明提供了一种石英透镜的移除方法，所述石英透镜设置于一反应腔内，所述反应腔内还设置有光源，所述光源设置于所述石英透镜上方，包括：

将所述光源取出所述反应腔；

提供保护罩，所述保护罩为一端开口的腔体，所述保护罩的顶面具有贯穿的通孔，将所述保护罩盖在所述石英透镜上，所述通孔露出所述石英透镜的部分顶面；以及，

利用真空吸盘吸附所述石英透镜露出的顶面，以将所述石英透镜移出所述反应腔。

可选的，所述保护罩的顶面与侧面之间倒有圆角。

可选的，所述保护罩的材料为特氟龙。

可选的，所述保护罩的内壁上设置有第一弹性保护层。

可选的，所述第一弹性保护层的材料为硅橡胶或氟化橡胶。

可选的，将所述石英透镜取出后放置于一可移动的底座上。

可选的，将所述保护罩盖在所述石英透镜上之后，所述通孔的中心轴与所述石英透镜的中心轴重合。

可选的，所述保护罩的内径为295mm～305mm。

可选的，所述通孔的内径为170mm～230mm。

可选的，所述反应腔为光增强型化学气相沉积设备中的反应腔，所述光源为紫外光源。

本发明提供的一种石英透镜的移除方法中，所述反应腔内设置有光源和石英透镜，所述光源位于所述石英透镜上，将所述光源取出所述反应腔；提供保护罩，所述保护罩为一端开口的腔体，所述保护罩的顶面具有贯穿的通孔，将所述保护罩盖在所述石英透镜上，所述通孔露出所述石英透镜的部分顶面；以及，利用真空吸盘吸附所述石英透镜露出的顶面，以将所述石英透镜移出所述反应腔，所述保护罩能够保护所述石英透镜在移动过程中不受磕碰，减少边缘受损，可以有效地节省维护的人力和物力，并可以减少更换破损石英透镜的次数，节省了财力。

附图说明

图1为一种光增强型化学气相沉积设备的反应腔的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种石英透镜的移除方法的流程图；

图3a～3d为本发明实施例提供的一种石英透镜的移除方法相应步骤对应的结构示意图；

其中，附图说明为：