[发明专利]一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法、制备方法及高耐磨的镀膜树脂镜片在审

专利信息
申请号: 202111005337.8 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN113699490A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 石艺伟 申请(专利权)人: 琪锐彩光电科技(厦门)有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/54;G02B1/14
代理公司: 厦门加减专利代理事务所(普通合伙) 35234 代理人: 包爱萍
地址: 361000 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 耐磨 镀膜 树脂 镜片 方法 制备
【权利要求书】:

1.一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,包括蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤:

所述二氧化硅层采用真空离子镀膜技术蒸镀成型于镜片上,其中,蒸镀膜材为一氧化硅,蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气,所述氧气的流量为40~60sccm。

2.根据权利要求1所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,所述蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤中,将镜片转移至真空镀膜腔内,并控制真空镀膜腔内真空度为(3~4)×10-5Torr,采用电子枪轰击所述蒸镀膜材,蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气,并控制膜层以的蒸镀速率沉积于镜片表面。

3.根据权利要求1所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,包括以下步骤:

S100、蒸镀打底层:采用真空离子镀膜技术在镜片基材表面蒸镀打底层;

S200、蒸镀颜色层:

S210、蒸镀五氧化三钛层:采用真空离子镀膜技术在打底层表面蒸镀五氧化三钛层;

S220、蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层:采用真空离子镀膜技术在五氧化三钛层表面蒸镀二氧化硅层;

S230、将S210、S220两个步骤再循环N-1个周期,N大于等于1;

S300、蒸镀防水层:采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层表面蒸镀防水层,即完成高耐磨的镀膜树脂镜片的膜层镀制。

4.根据权利要求1或3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,还包括镜片基材强化处理步骤:

在镀制膜层前,将所述镜片基材放入加硬强化液里浸泡,而后在80℃~120℃下烘烤固化成型,以使所述镜片基材表面形成保护层。

5.根据权利要求1或3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,还包括等离子轰击处理步骤:

所述镜片强化处理后,将镜片转移至真空镀膜腔内并控制真空镀膜腔内真空度在(6~8)×10-5Torr,向真空镀膜腔内注入惰性气体并采用离子源对镜片基材进行离子轰击,轰击时间为30~150s。

6.根据权利要求3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,所述S100中,将镜片转移至真空镀膜腔内,控制真空镀膜腔内真空度为(4~5)×10-5Torr,采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅,并控制一氧化硅打底层以的蒸镀速率沉积于镜片表面。

7.根据权利要求3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,所述S210中,将镜片转移至真空镀膜腔内,控制真空镀膜腔内真空度为(3~4)×10-5Torr,采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛,并控制五氧化三钛层以的蒸镀速率沉积于打底层表面。

8.根据权利要求3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于,所述打底层沉积厚度为(10~100)nm;所述二氧化硅层沉积厚度为(50~200)nm;所述五氧化三钛层沉积厚度为(50~200)nm;防水层沉积厚度为(2~15)nm。

9.一种高耐磨的镀膜树脂镜片的制备方法,其特征在于,采用如权利要求1-8任一项所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法对镜片进行镀膜。

10.一种高耐磨的镀膜树脂镜片,其特征在于,采用如权利要求9所述的高耐磨的镀膜树脂镜片制备方法制得。

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