[发明专利]发光器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111009416.6 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN113851591A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 罗健;庄锦勇 申请(专利权)人: 广东聚华印刷显示技术有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 510000 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 发光 器件 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种发光器件,所述发光器件包括底电极、发光层和顶电极,其特征在于,所述发光层包括第一量子点层、第二量子点层与中间层;其中,

所述中间层位于所述第一量子点层与所述第二量子点层之间,所述中间层为P型半导体。

2.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第一量子点层和所述第二量子点层中的至少一层包括具有P型半导体壳层组分的核壳结构量子点,所述中间层选自所述核壳结构量子点壳层组分中的P型半导体。

3.如权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述第一量子点层包括第一核壳结构量子点,所述第二量子点层包括第二核壳结构量子点;其中,

所述第一核壳结构量子点的壳层组分为第一P型半导体,所述第二核壳结构量子点的壳层组分为第二P型半导体,所述第一P型半导体的带隙大于或等于所述第二P型半导体;

所述中间层为第一P型半导体。

4.如权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述第一核壳结构量子点选自CdS/ZnS、PbS/ZnS、PbSe/ZnS、ZnCdS/ZnS、ZnSe/ZnS、CdS/ZnCdSe、ZnCdSeS/ZnS、CdSe/CdS、CdSe/ZnSe、ZnCdSe/ZnS、CdSe/CdS/ZnS中的至少一种,所述第二核壳结构量子点选自CdS/ZnS、PbS/ZnS、PbSe/ZnS、ZnCdS/ZnS、ZnSe/ZnS、CdS/ZnCdSe、ZnCdSeS/ZnS、CdSe/CdS、CdSe/ZnSe、ZnCdSe/ZnS、CdSe/CdS/ZnS中的至少一种。

5.如权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述第一核壳结构量子点为ZnCdSeS/ZnS,所述第二核壳结构量子点为ZnCdS/ZnS,所述中间层为ZnS。

6.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述中间层的厚度为5nm-20nm。

7.一种发光器件的制备方法,所述发光器件包括底电极、发光层、顶电极,其特征在于,所述发光层包括第一量子点层、第二量子点层与中间层,所述中间层位于所述第一量子点层与所述第二量子点层之间,所述中间层为P型半导体,所述发光器件的制备方法包括:

在预设基板上沉积所述底电极,得到第一中间器件;

基于所述第一中间器件沉积所述发光层,得到第二中间器件;

基于所述第二中间器件沉积所述顶电极,得到发光器件。

8.如权利要求7所述的发光器件的制备方法,其特征在于,所述发光器件的制备方法还包括:在预设基板上沉积所述底电极,得到第一中间器件的步骤之后,在所述第一中间器件上制备空穴注入层与空穴传输层;

和/或,所述基于所述第二中间器件沉积所述顶电极,得到发光器件的步骤之前,在所述第二中间器件上制备电子传输层。

9.如权利要求7所述的发光器件的制备方法,其特征在于,所述发光器件的制备方法还包括:在预设基板上沉积所述底电极,得到第一中间器件的步骤之后,在所述第一中间器件上制备电子传输层;

和/或,所述基于所述第二中间器件沉积所述顶电极,得到发光器件的步骤之前,在所述第二中间器件上制备空穴注入层和空穴传输层。

10.如权利要求7所述的发光器件的制备方法,其特征在于,所述发光器件的制备方法还包括:所述基于所述第二中间器件沉积所述顶电极,得到发光器件的步骤之前,在所述第二中间器件上依次沉积第二中间层和第三量子点层,所述第二中间层为P型半导体,所述第一量子点层、所述第二量子点层和所述第三量子点层发射的光线混合以形成白光。

11.如权利要求7所述的发光器件的制备方法,其特征在于,所述底电极为氧化铟锡、氧化铟锌、金、铂、硅中的一种,和/或,所述顶电极为银、铝、锂、镁、钙、铟中的一种或多种。

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