[发明专利]一种镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法在审
申请号: | 202111019955.8 | 申请日: | 2021-09-01 |
公开(公告)号: | CN113735186A | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 许开华;易全瑞;刘文泽;刘玉成;洪宏龙 | 申请(专利权)人: | 荆门市格林美新材料有限公司 |
主分类号: | C01G51/04 | 分类号: | C01G51/04 |
代理公司: | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人: | 甄薇薇 |
地址: | 448000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 均匀分布 粒径 氧化 制备 方法 | ||
本发明公开了一种镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法,包括以下步骤:配制钴镁溶液;向第一反应釜中加入底液并进行搅拌;将钴镁溶液、碳酸氢铵溶液同时加入到反应釜中,合成第一固体物料,当第一固体物料的粒度D50生长至3.0μm‑3.5μm时停止反应,得到晶种;将晶种的一半分出至另一个反应釜中,将钴镁溶液、碳酸氢铵溶液同时加入到后来的反应釜中,合成得到第二固体物料,当第二固体物料的粒度D50生长至5.0μm‑5.6μm时停止反应,将得到的碳酸钴成品离心洗涤、煅烧,得到镁均匀分布的小粒径四氧化三钴。本发明制备的产品镁分布更为均匀、比表面积更大、球形度更好。
技术领域
本发明属于锂电池材料技术领域,具体涉及一种镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法。
背景技术
钴酸锂具备较高的比容量和循环性能,目前作为正极材料已经广泛应用于3C数码领域,其中包括数码相机、手机、无人机、无线耳机等。然而,随着社会的发展,对上述产品的性能提出了更高的要求,由传统的3.0V电压发展至今的4.35V、4.45V,甚至4.5V,作为钴酸锂的原材料四氧化三钴,显得尤为重要。目前最为常见的是不掺杂及掺镁体系制备的四氧化三钴,现有合成过程存在不稳定、掺镁不均匀等问题,严重影响产品的稳定性,正是由于掺镁不均匀,严重影响钴酸锂的高电压特性,而镁作为自然界中较为常见的元素,能均匀的和碳酸钴形成共沉淀,改善其材料阻抗特性,作为一种特殊锂电池的材料被广受好评。
发明内容
针对现有技术中的问题,本发明提供一种分布更为均匀、比表面积更大(3-5m2/g)、球形度更好、有助于降低电池的阻抗并加速电子的移动速度、充放电效率高的镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法。
本发明采用以下技术方案:
一种镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
(1)配制含有钴离子、镁离子的钴镁溶液,配制碳酸氢铵溶液;
(2)向第一反应釜中加入底液并进行搅拌,控制底液的pH为7.5-8.5;
(3)以并流的方式将钴镁溶液、碳酸氢铵溶液同时加入到第一反应釜中,维持第一反应釜内浆料pH为7.2-7.6,合成得到第一固体物料,控制第一固体物料的生长速度为每8小时增长0.3μm-0.55μm,当第一固体物料的粒度D50生长至3.0μm-3.5μm时停止反应,得到晶种;
(4)将晶种的一半分出至第二反应釜中,然后向第二反应釜中加入碳酸氢铵溶液,控制第二反应釜中pH为7.6-7.8,以并流的方式将钴镁溶液、碳酸氢铵溶液同时加入到第二反应釜中,维持第二反应釜中内浆料pH为7.2-7.6,合成得到第二固体物料,控制第二固体物料生长速度为每8小时增长0.3μm-0.55μm,当第二固体物料的粒度D50生长至5.0μm-5.6μm时停止反应,得到碳酸钴成品;
(5)将碳酸钴成品通过离心洗涤、煅烧,得到镁均匀分布的小粒径四氧化三钴。
根据上述的镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法,其特征在于,步骤(1)钴镁溶液中钴离子浓度为100g/L-140g/L、镁离子浓度为1g/L-1.5g/L,碳酸氢铵溶液的浓度为200g/L-280g/L。
根据上述的镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法,其特征在于,步骤(1)钴镁溶液中钴离子浓度为100g/L-130g/L、镁离子浓度为1.1g/L-1.4g/L,碳酸氢铵溶液的浓度为240g/L-280g/L。
根据上述的镁均匀分布的小粒径四氧化三钴的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述底液是通过向第一反应釜中依次加入纯水、碳酸氢铵溶液配制得到,所述底液中碳酸氢铵浓度为20g/L-40g/L,加入的纯水体积与第一反应釜容积之比为0.4-0.6;步骤(2)中所述底液的温度为40℃-55℃,第一反应釜中搅拌转速为120r/min-300r/min。
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