[发明专利]锗晶体用抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种锗晶体用抛光液，其特征在于，所述抛光液按重量计％，主要由下列原料组成：

抛光剂 20％～80％；

有机溶剂为 10％～50％；

pH值调节剂 1％～30％；

余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，

所述抛光剂为氧化硅、氧化铝、钻石粉中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，

所述抛光剂粒度为0.1um～5um，浓度为0.1g/L～20g/L。

4.根据权利要求1所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，

所述有机溶剂为丙二醇。

5.根据权利要求1所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，

所述有机溶剂纯度为99％。

6.根据权利要求1所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，

所述PH值调节剂为柠檬酸。

7.根据权利要求1所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，

所述PH值调节剂纯度为99％。

8.一种锗晶体用抛光液的制备方法，用于制备权利要求1-7中任一项所述的锗晶体用抛光液，其特征在于，包括步骤：

步骤一：将抛光剂加去离子水在搅拌条件下加入有机溶剂；

步骤二：将pH添加剂加入步骤一中，搅拌均匀后得到抛光液。