[发明专利]内置释放孔结构的谐振器在审
申请号: | 202111031470.0 | 申请日: | 2021-09-03 |
公开(公告)号: | CN113872561A | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 孙成亮;罗天成;蔡耀;刘炎;邹杨;高超;龙开祥 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | H03H9/17 | 分类号: | H03H9/17;H03H9/02 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 肖明洲 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 内置 释放 结构 谐振器 | ||
本发明公开了一种内置释放孔结构的谐振器,具体指一种具有高品质因数,带有内置释放孔结构的薄膜体声波谐振器。该谐振器在压电层表面分布有底电极和顶电极,在谐振器工作区域内部有一个或多个释放孔的存在。该谐振器可用滤波器、双工器等的搭建。利用该谐振器搭建的滤波器、双工器等不仅具有高品质因数,而且能够使得结构布局更为紧凑,减小器件面积。
技术领域
本发明涉及谐振器技术领域,具体涉及一种内置释放孔结构的谐振器。
背景技术
MEMS射频器件在通信领域发挥着极其重要的作用。射频前端器件(尤其是滤波器)必须满足高频率、集成化、微型化、低功耗、高性能、低成本等要求。其中,体声波谐振器(Bulk Acoustic Wave Resonator)及其滤波器凭借其特有的优势,在主流市场中占据主导地位。上述谐振器是组成射频前端滤波器的核心组件。
薄膜体声波器件的纵向工作区域包括衬底、空腔、底电极、压电层和顶电极等。谐振器及滤波器的制备过程中需要对空腔中的牺牲层进行释放,采用的方法是在器件工作区域四周刻蚀释放孔,再通过释放孔来对牺牲层进行释放。这种释放方法的优点是释放孔位于器件的工作区域之外,不会对器件的工作性能造成影响。但这种释放结构的缺点在于增大了器件整体的横向尺寸,与集成化、微型化的需求相悖。
发明内容
针对背景技术中存在的问题,本发明提供一种内置释放孔结构的谐振器,用以优化器件结构中释放孔的排布方式,进而解决传统释放结构造成的器件尺寸过大的问题。
为实现上述目的,本发明提供一种内置释放孔结构的谐振器,其特征在于:包括压电层和分布在压电层表面的底电极、顶电极;在压电层、底电极和顶电极中同时存在释放孔结构,所述释放孔结构位于底电极和顶电极的边缘或中心区域;
所述压电层的材料为氮化铝、氧化锌、铌酸锂、钽酸锂、PZT、铌酸钡钠中的一种或多种组合。
作为优选方案,所述底电极和顶电极的材料为钼、铂、金、银、铝、钨、钛、钌、铜和铬中的一种或多种组合。
进一步地,所述所述底电极和顶电极的形状为圆形、椭圆形、任意多边形、弧形、环形或螺旋形中的任一种。
更进一步地,所述释放孔结构包含若干形状相同或不相同的释放孔;所述释放孔的形状为圆形、椭圆形、任意多边形、弧形、环形或螺旋形中的任一种或多种的组合。
本发明的优点及有益效果如下:
本发明提供的一种内置释放孔结构的谐振器,通过将释放孔结构置于器件有效工作区域之内,可以节省有效工作区域之外的布局面积。并且由于释放孔结构在有效工作区域之内,所以对器件性能也有影响,通过优化释放孔的形状和数量可以提升器件性能。
附图说明
图1为本发明实施例中涉及的内置释放孔结构的谐振器的主视图;
图2为本发明实施例1中内置释放孔结构的谐振器的俯视图;
图3为本发明实施例2中内置释放孔结构的谐振器的俯视图;
图4为本发明实施例3中内置释放孔结构的谐振器的俯视图;
图5为本发明实施例3的阻抗曲线图。
具体实施方式
以下将结合附图与实施例对本发明的技术方案进行进一步清楚、完整地阐述。
图1所示为本发明实施例中内置释放孔结构的谐振器的主视图,结构包括底电极11、压电层12和顶电极13。
实施例1
如图2所示,实施例1中内置释放孔结构的谐振器的俯视图,结构包括顶电极13和释放孔结构14,释放孔结构为圆形,位于器件有效工作区域的中间部分。
实施例2
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