[发明专利]一种链式真空镀膜设备

说明书

本发明提供一种链式真空镀膜设备，其可以防止承载盘形变，同时很容易调整承载板、电极板之间距离，极大的降低了生产成本。其包括承载盘、滚轴、加热器；所述承载盘为水平设置的平板状结构，所述滚轴水平等高地、并行设置在所述承载盘底端面，所述滚轴的滚动方向为所述承载盘的运动方向；所述加热器分别设置于相邻的两个所述滚轴之间的位置；所述加热器底端设置升降结构；两个所述滚轴之间的距离大于所述加热器的宽度。

技术领域

本发明涉及真空气相沉积镀膜设备技术领域，具体为一种链式真空镀膜设备。

背景技术

链式真空镀膜是一种重要的产业技术，应用于光伏，显示器，半导体，电池，材料等等总多领域，发挥着重要甚至核心的作用。现有链式真空设备所采用的传动系统如图1所示，待镀膜材料放置在承载盘1上，承载盘1底端通过链轮2驱动，将待镀膜材料送入到加热腔体中。然而，现有技术中，因为链轮2设置在承载盘1底端两侧，在使用过程中，承载盘1因为仅仅两端受力，会发生形变，导致待镀膜材料出现加热不均的问题，良品率降低，导致生产成本增加；同时，现有技术中，承载板1与设置其上部的电极板之间的距离是固定的，一旦需要工艺参数改变，需要调整待镀膜材料与电极板之间的距离是，需要花费很大成本进行调整，也会导致生产成本增加。

发明内容

为了解决现有技术中，因为承载盘形变导致良品率降低，以及承载板、电极板之间距离调整困难，进而导致生产成本增加的问题，本发明提供一种链式真空镀膜设备，其可以防止承载盘形变，同时很容易调整承载板、电极板之间距离，极大的降低了生产成本。

本发明的结构是这样的：一种链式真空镀膜设备，其包括承载盘，其特征在于，其还包括：滚轴、加热器；

所述承载盘为水平设置的平板状结构，所述滚轴水平等高地、并行设置在所述承载盘底端面，所述滚轴的滚动方向为所述承载盘的运动方向；

所述加热器分别设置于相邻的两个所述滚轴之间的位置；所述加热器底端设置升降结构；

两个所述滚轴之间的距离大于所述加热器的宽度。

其进一步特征在于：

所述承载盘为矩形平板装，使用硬质易导热材料；

所述滚轴为带轮滚轴，包括：轮轴，所述轮轴上等距套装复数个相同尺寸的滚轮；

其还包括限位器，所述限位器分别设置于所述滚轴上方，所述承载盘的两侧。

本发明提供的一种链式真空镀膜设备，通过滚轴对承载盘进行传动，承载盘由两端支撑变为通过中间部分的横向支撑，因此可以杜绝常规链式真空镀膜设备传动结构中常见的承载盘中间部下垂的问题，进而避免了待镀膜材料出现加热不均的问题，提高了良品率，降低了生产成；设置于相邻的两个滚轴之间加热器，通过升降结构驱动可以从底部接触承载盘下表面，确保承载盘下表面与平板加热器得以充分接触，与传统设备的非接触式辐射加热相比，接触加热可以实现对承载盘快速且均匀地加热，提高了良品率；同时，通过升降结构驱动加热器升起，可以将承载盘顶起，调整承载盘与其上部的电极板之间的距离，降低了调整设备的成本，同时提升了设备整体可控性及可靠性。

附图说明

图1为现有技术中的承载盘与链轮的结构示意图；

图2为本发明中镀膜设备的主视的结构示意图；

图3为本发明中镀膜设备的俯视的结构示意图；

图4为升降结构升起后加热器与承载盘的结构关系示意图。

具体实施方式

如图2、3所示，本发明一种链式真空镀膜设备，其包括承载盘1，滚轴3、加热器4。

承载盘1为水平设置地平板状结构，滚轴3水平等高地、并行设置在承载盘1底端面，滚轴3的滚动方向为承载盘1的运动方向；本实施例中，承载盘1为矩形平板状，确保滚轴3传动承载盘1的时候，承载盘1不会发生因为接触面不平而导致的承载盘起伏震动的问题；承载盘1使用如：金属、石墨、陶瓷、玻璃等硬质易导热材料制作，进一步确保不会发生中间塌陷的问题。