[发明专利]一种循环陶瓷基片喷砂机在审
申请号: | 202111044524.7 | 申请日: | 2021-09-07 |
公开(公告)号: | CN113664733A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 郝干东 | 申请(专利权)人: | 苏州暾达智能装备有限公司 |
主分类号: | B24C3/12 | 分类号: | B24C3/12;B24C3/32;B24C7/00;B24C3/08;B24C9/00 |
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地址: | 215500 江苏省苏州市常熟市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 循环 陶瓷 喷砂机 | ||
本发明公开了一种循环陶瓷基片喷砂机,包括上料机构、喷砂机构、水砂循环分离机构、输送机构和喷砂泵;所述上料机构位于喷砂机构前端,输送机构位于喷砂机构后端;所述水砂循环分离机构包括搅拌桶、水砂分离水箱和水砂分离器;所述搅拌桶内装有含有打磨砂的水,搅拌桶连接喷砂泵,喷砂泵连接喷砂机构,喷砂机构再连接搅拌桶,构成循环回路;所述搅拌桶连通水砂分离水箱,水砂分离水箱分为泵箱和筛箱,泵箱内设有水砂分离泵,水砂分离泵连接水砂分离器,水砂分离器下端连通搅拌箱,水砂分离器上端连通筛箱。本发明一种循环陶瓷基片喷砂机,旨在通过喷砂机实现陶瓷基片的批量化喷砂工艺,喷砂过程自动化程度高,且可以实现水砂的循环分离。
技术领域
本发明属于喷砂技术领域,尤其涉及一种循环陶瓷基片喷砂机。
背景技术
陶瓷基片完成烧结后需要对其表面进行喷砂,以达到光洁陶瓷基片表面的目的。现有的陶瓷基片多为矩形薄片,在喷砂工艺中需要同时对陶瓷基片的两侧进行喷砂。为提高喷砂效率,需要研制专门的喷砂设备。
另外,利用含有打磨砂的水反复冲击陶瓷基片的喷砂工艺中,如何循环上述含有打磨砂的水,如何将经过多次打磨后因粒径变小而无法使用的打磨砂进行分离,如何向喷砂设备中补充新的打磨砂等皆是需要解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种循环陶瓷基片喷砂机,旨在通过喷砂机实现陶瓷基片的批量化喷砂工艺,喷砂过程自动化程度高,且可以实现水砂的循环分离。
为了实现上述目的,本发明的技术方案是设计一种循环陶瓷基片喷砂机,包括上料机构、喷砂机构、水砂循环分离机构、输送机构和喷砂泵;所述上料机构位于喷砂机构前端,输送机构位于喷砂机构后端;所述水砂循环分离机构包括搅拌桶、水砂分离水箱和水砂分离器;所述搅拌桶内装有含有打磨砂的水,搅拌桶连接喷砂泵,喷砂泵连接喷砂机构,喷砂机构再连接搅拌桶,构成循环回路;所述搅拌桶连通水砂分离水箱,水砂分离水箱分为泵箱和筛箱,泵箱内设有水砂分离泵,水砂分离泵连接水砂分离器,水砂分离器下端连通搅拌箱,水砂分离器上端连通筛箱。
进一步的,所述上料机构包括上料机构安装机架、垂直上料机构、上料吸盘装配机构和上料输送轮带机构;所述垂直上料机构包括料框水平滑轨、料框背板、料框、放料板、上抬板;所述料框为水平放置的框状结构,料框有两个,且并排设置在料框背板一侧;所述料框背板与料框相互垂直;所述料框内搁置有放料板;所述料框背板在料框水平滑轨上滑动,且料框一侧连接有用于驱动料框水平移动的水平驱动机构,料框水平滑轨水平横置在机架内;所述料框水平滑轨中央位置,位于料框下方设有上抬板;上抬板下部连接升降机构;所述垂直上料机构后侧,位于料框背板上沿相同高度处设有上料输送轮带机构;所述上料输送轮带机构正上方设有上料吸盘装配机构;所述上料吸盘装配机构包括水平气缸、垂直气缸、真空发生器、真空吸盘、吸盘机构安装背板;所述水平气缸的缸体设置在上料机构安装机架上,且水平气缸的气缸杆朝向垂直上料机构的方向,水平气缸的气缸杆连接吸盘机构安装背板后侧,吸盘机构安装背板前端设有垂直气缸,垂直气缸的气缸杆朝下,且通过吸盘连接件连接若干真空吸盘;所述吸盘机构安装背板上设有真空发生器,真空发生器通过若干气管分别连接若干真空吸盘。
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