[发明专利]素描风格的场景渲染方法、设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202111058004.1 申请日: 2021-09-09
公开(公告)号: CN113935893A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 国家玮 申请(专利权)人: 完美世界(北京)软件科技发展有限公司
主分类号: G06T3/00 分类号: G06T3/00;G06T7/13;G06T7/40;A63F13/60
代理公司: 北京太合九思知识产权代理有限公司 11610 代理人: 刘戈;孙明子
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 素描 风格 场景 渲染 方法 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种素描风格的场景渲染方法,其特征在于,所述方法包括:

对于待处理的三维场景,确定各个场景元素模型中描边线所处的位置;

根据所述描边线所处的位置,对各个场景元素模型进行描边着色,得到包含所述描边线的三维场景;

根据各个场景元素模型的法线方向,通过材质编辑器将素描笔触贴图平铺到包含所述描边线的三维场景中;

在平铺有素描笔触贴图的三维场景中,将场景颜色与素描笔触贴图的笔触颜色进行融合,得到素描风格化场景。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述材质编辑器包括作用于后处理阶段的材质球;

所述根据各个场景元素模型的法线方向,通过材质编辑器将素描笔触贴图平铺到包含所述描边线的三维场景中,包括:

将各个场景元素模型的法线方向、素描笔触贴图、以及素描笔触贴图在包含所述描边线的三维场景中的平铺位置、面积,输入到所述材质球中添加的世界对齐纹理节点;

根据素描笔触贴图的平铺位置,通过所述世界对齐纹理节点将素描笔触贴图设置到包含所述描边线的三维场景的各个场景元素模型中;并

根据各个场景元素模型的法线方向以及素描笔触贴图的初始法线方向,通过所述世界对齐纹理节点调整素描笔触贴图在各个场景元素模型中的朝向。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述素描笔触贴图在各个场景元素模型中的朝向,包括:

素描笔触贴图所处平面与各个场景元素模型的法线方向垂直。

4.根据权利要求1至3任一所述的方法,其特征在于,素描笔触贴图为样式四方连续并且具有素描笔触效果的贴图。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述描边线包括轮廓线和/或折线,轮廓线是用于表示模型外部轮廓的描边线,折线是用于表示模型内部轮廓的描边线;

所述确定各个场景元素模型中描边线所处的位置,包括:

获取各个场景元素模型中处于轮廓线和/或折线上的边缘像素。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,若所述描边线包括轮廓线,则所述获取各个场景元素模型中处于轮廓线和/或折线上的边缘像素,包括:

对于每一场景元素模型中待检测的像素,对当前像素的纹理坐标进行偏移,得到周围像素的纹理坐标;其中,偏移方向为当前像素的法线方向,偏移距离为当前屏幕视口尺寸与偏移系数的乘积;

获取当前像素与周围像素的深度差;

若所述深度差大于设定深度差阈值,则以当前像素作为场景元素模型中轮廓线上的边缘像素。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,若所述描边线包括折线,则所述获取各个场景元素模型中处于轮廓线和/或折线上的边缘像素,包括:

对于每一场景元素模型中待检测的像素,对当前像素的纹理坐标进行偏移,得到周围像素的纹理坐标;其中,偏移方向为当前像素的法线方向,偏移距离为当前屏幕视口尺寸与偏移系数的乘积;

对比当前像素与周围像素在世界坐标系下各自的法线值;

若当前像素与周围像素的法线差值大于设定法线差值阈值,则以当前像素作为场景元素模型中折线上的边缘像素。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述描边线所处的位置,对各个场景元素模型进行描边着色,得到包含所述描边线的三维场景,包括:

根据各个场景元素模型中处于所述描边线上的边缘像素,生成包含各个场景元素模型中边缘像素的第一遮罩图;

根据各个边缘像素的场景颜色,在所述第一遮罩图中的各个边缘像素之间进行线性插值,得到包含所述描边线的三维场景。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,还包括:

根据各个边缘像素的纹理坐标,对三维噪声图进行采样,以得到各个边缘像素对应的噪声值;

根据各个边缘像素对应的噪声值,对各个边缘像素的场景颜色进行偏移处理,得到包含非连续描边线的三维场景。

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