[发明专利]石英管清洗装置及清洗方法

说明书

本发明提供了一种石英管清洗装置及清洗方法，该石英管清洗装置包括底部具敞口的清洗罩，与清洗罩沿垂直方向活动插接装配的底座，设置于底座内并箍持石英管的承载台，以及驱动装置；清洗罩的顶部设置第一喷嘴，清洗罩的侧壁竖直设置若干第二喷嘴，承载台垂直设置内喷管，内喷管位于承载台上方的顶部和侧部设置若干第三喷嘴；底座嵌设回旋密封装置，内喷管沿垂直方向连续贯穿承载台与回旋密封装置；驱动装置驱动承载台旋转，内喷管在承载台旋转过程中保持静止。通过申请，实现了对各种尺寸的石英管进行高效清洗作业，能够满足不同直径石英管清洗的需求，简化了石英管清洗装置的结构并提高了使用寿命，避免了石英管在清洗过程中造成损坏。

技术领域

本发明涉及半导体设备耗材清洗设备技术领域，尤其涉及一种石英管清洗装置及清洗方法。

背景技术

石英管是半导体器件制造设备（例如化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、扩散设备（Diff）或者成膜设备（T/F）等）中普遍使用的半导体设备耗材。石英管在前述半导体设备中使用一段时间后其内壁面会残留大量脏污、金属杂质或者固体颗粒，然而石英管造价昂贵，因此需要在被彻底清洗后予以重复使用，以降低半导体器件的制造成本。

申请人经过检索后发现公开号为CN101181711A的中国发明专利公开了一种自动立式石英管清洗机及其清洗工艺。在该现有技术中，石英管（即工件）由工件支架支撑在转盘上，并通过转盘两边相对安装的喷淋管及顶部吊装的管式喷嘴对石英管进行清洗作业，石英管以开口朝上的姿态放置于转盘上。

首先，该现有技术无法实现大直径石英管的清洗作业，尤其是对于8英寸及12英寸晶圆制成所使用的石英管而言，石英管的体积及质量较大。该现有技术以石英管开口向上的姿态被固定在清洗机中。因此当位于顶部的管式喷嘴向石英管的开口处喷入去离子水（DIW）或者清洗剂后，会导致整个石英管重量巨大，这会严重影响石英管被转盘驱动并旋转过程中的稳定性并增加能耗，且存在去离子水严重浪费的缺陷。此外，客观上这种清洗装置对石英管的内壁面由于液体贮存在石英管内，从而导致对石英管内壁面的清洗效果不佳。其次，该现有技术由于需要通过工件支架支撑在转盘，导致与工件支架接触的石英管的外壁面接触处由于受到工件支架的遮蔽，从而导致存在石英管的外壁面无法被有效清洗的缺陷，且转盘需要承受石英管及容置于石英管内部所贮存的液体所施加的巨大压力，极易导致转盘发生故障并对转盘造成损坏；最后，申请人还指出该现有技术只能对一种特定直径的石英管进行清洗，且石英管在旋转过程中其外壁面会与工件支架发生摩擦，从而导致石英管的外壁面在清洗过程中造成划伤，且无法满足不同直径石英管清洗的需求。

有鉴于此，有必要对现有技术中的对石英管执行清洗作业的清洗装置予以改进，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于揭示一种石英管清洗装置及基于该石英管清洗装置对石英管执行清洗作业的方法，用以解决现有技术中的石英管清洗装置所存在的诸多缺陷，尤其是为了实现对各种尺寸的石英管进行高效清洗作业，节约去离子水等清洗剂的使用量，简化石英管清洗装置的结构并提高石英管清洗装置的使用寿命，并避免石英管在清洗过程中造成损坏。

为实现上述目的之一，本发明提供了一种石英管清洗装置，包括：

底部具敞口的清洗罩，与清洗罩沿垂直方向活动插接装配的底座，设置于底座内并箍持石英管的承载台，以及驱动装置；

所述清洗罩的顶部设置第一喷嘴，所述清洗罩的侧壁竖直设置若干第二喷嘴，所述承载台垂直设置内喷管，所述内喷管位于承载台上方的顶部和侧部设置若干第三喷嘴；所述底座嵌设回旋密封装置，所述内喷管沿垂直方向连续贯穿承载台与回旋密封装置；所述驱动装置驱动承载台旋转，所述内喷管在承载台旋转过程中保持静止。

作为本发明的进一步改进，所述承载台沿垂直方向向上形成至少两层直径渐缩且逐级升高布置的定位凸台，所述定位凸台的边缘处形成若干缺口。