[发明专利]一种OLED器件支撑柱的结构及其制作方法

权利要求书

1.一种OLED器件支撑柱的结构，包括玻璃基板（1），其特征在于：所述玻璃基板（1）上沉积有金属遮光层（2），所述金属遮光层（2）经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案，且金属遮光层（2）上面沉积一层缓冲层（3），所述缓冲层（3）上沉积溅射一层有源层（4）；

所述有源层（4）上沉积一层栅极绝缘层（6），所述栅极绝缘层（6）上溅射一层金属栅极（7），所述栅极绝缘层（6）和金属栅极（7）采用同一套光罩，经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案，所述金属栅极（7）上沉积一层钝化层（9），所述钝化层（9）经过曝光显影蚀刻脱膜形成开孔图案；

所述钝化层（9）的开孔图案上溅射一层金属层，金属层经过曝光显影蚀刻脱膜形成金属源极（5）和金属漏极（8），所述金属源极（5）和金属漏极（8）通过钝化层（9）的开孔图案与下层导体化后的非沟道区域的有源层（4）进行欧姆搭接，并且金属源极（5）与下层的金属遮光层（2）搭接在一起；

所述金属源极（5）和金属漏极（8）上沉积一层平坦层（10），所述平坦层（10）经过曝光显影蚀刻脱膜形成开孔图案，所述平坦层（10）的开孔图案上溅射一层电极层（11），所述电极层（11）经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案，所述电极层（11）上涂布一层像素定义层（12），所述像素定义层（12）经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案；

所述像素定义层（12）上涂布有支撑柱本体（13），所述支撑柱本体（13） 中的胶水中掺杂磁性颗粒（14），所述像素定义层（12）的图案开孔处制备沉积OLED发光器件（15），并形成隔离封装盖板隔离水氧。

2.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述金属遮光层（2）的材料为金属Mo，其厚度范围为0.1um-0.2um。

3.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述缓冲层（3）的材料为SiO₂或者SiN_x，其厚度范围为0.3um-0.6um。

4.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述有源层（4）为IGZO，IGZTO或者IZO，所述有源层（4）溅射的厚度范围为0.03um-0.06um。

5.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述栅极绝缘层（6）的材料为SiO₂或者SiN_x，其厚度范围为0.3um-0.6um。

6.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述钝化层（9）的材料为SiO₂或者SiN_x，其厚度范围为0.3um-0.6um。

7.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述像素定义层（12）的材料为聚胺、聚酰胺、聚酰亚胺、酚醛树脂、聚氨酯、聚硅烷中的任意一种，其厚度范围为2um-3um。

8.根据权利要求1所述的一种OLED器件支撑柱的结构，其特征在于：所述支撑柱本体（13）的材料为有机树脂，亚克力、环氧树脂、硅树脂中的任意一种，其厚度范围为2um-4um。

9.一种权利要求1-8任意一项所述的OLED器件支撑柱的结构的制作方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

S1、在玻璃基板（1）上通过PVD溅射上金属遮光层（2），并且在玻璃基板（1）的玻璃开孔处以及孔壁上溅射遮光层的膜层，再在缓冲层（3）上通过PVD溅射一层有源层（4），有源层（4）经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案；

S2、在步骤S1的基础之上通过PECVD沉积一层栅极绝缘层（6），然后再通过PVD溅射一层金属栅极（7），栅极绝缘层（6）和金属栅极（7）采用同一套光罩，经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案，再在金属栅极（7）通过PECVD沉积一层钝化层（9），钝化层（9）经过曝光显影蚀刻脱膜形成开孔图案；

S3、在步骤S2的基础之上在钝化层（9）的开孔图案上溅射一层金属层，金属层经过曝光显影蚀刻脱膜形成金属源极（5）和金属漏极（8），所述金属源极（5）和金属漏极（8）通过钝化层（9）的开孔图案与下层导体化后的非沟道区域的有源层（4）进行欧姆搭接，并且金属源极（5）与下层的金属遮光层（2）搭接在一起；

再通过PECVD在金属源极（5）和金属漏极（8）上沉积一层平坦层（10），平坦层（10）经过曝光显影蚀刻脱膜形成开孔图案，然后在平坦层（10）的开孔图案上通过PVD溅射一层电极层（11），最后在电极层（11）上涂布一层像素定义层（12），像素定义层（12）经过过曝光显影蚀刻脱膜形成图案，像素定义层（12）经过曝光显影蚀刻脱膜形成图案；

S4、在步骤S3的基础之上在像素定义层（12）上通过涂布机涂布有机薄膜，有机薄膜经过曝光显影蚀刻脱膜形成支撑柱本体（13），最后在像素定义层（12）的图案开孔处制备沉积OLED发光器件（15）；

在制备支撑柱本体（13）时，在有机胶水中掺杂磁性颗粒（14），磁性颗粒（14）和胶水形成混合物，经过固化之后形成具有缓冲和磁性的支撑柱本体（13）。