[发明专利]一种微型块阵列移动组件及其制作方法在审
申请号: | 202111074897.9 | 申请日: | 2021-09-14 |
公开(公告)号: | CN113683053A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 杨鼎麟;瞿苍宇;聂锦辉;马明;郑泉水 | 申请(专利权)人: | 深圳清华大学研究院;清华大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张艺 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微型 阵列 移动 组件 及其 制作方法 | ||
1.一种微型块阵列移动组件,其特征在于,包括移动部件,所述移动部件包括:
透明基板;
位于所述透明基板上表面的透明介质体;
分布在所述透明介质体背离所述透明基板的表面的透明触头阵列,所述透明触头阵列背离所述透明基板的表面为平面,且所述透明触头阵列兼具柔性和刚性。
2.如权利要求1所述的微型块阵列移动组件,其特征在于,所述透明介质体和所述透明触头阵列为一体式结构。
3.如权利要求1所述的微型块阵列移动组件,其特征在于,所述透明介质体的数量为多个。
4.如权利要求3所述的微型块阵列移动组件,其特征在于,还包括:
位移台,用于调整目标基底和微型块阵列的位移以及当所述透明触头阵列与微型块阵列接触时,在微型块层间施加剪切力。
5.如权利要求1所述的微型块阵列移动组件,其特征在于,还包括:
三维位移架,用于调整所述透明触头阵列的位移。
6.如权利要求1至5任一项所述的微型块阵列移动组件,其特征在于,还包括:
转角位移台,用于调整目标基底的与转移的微型块之间的相对转角。
7.一种微型块阵列移动组件的制作方法,其特征在于,包括:
准备衬底和透明基板;
在所述衬底上制作出第一凹槽阵列,向所述第一凹槽阵列中注满透明液体,并固化所述透明液体形成透明触头阵列;其中,第一凹槽的底部为平面,所述透明触头阵列兼具柔性和刚性;
在所述透明基板上表面制作透明介质体,并将从衬底中转移出的所述透明触头阵列置于所述透明介质体背离所述透明基板的表面,其中,所述透明触头阵列底部远离所述透明基板。
8.如权利要求7所述的微型块阵列移动组件的制作方法,其特征在于,在所述衬底上制作出第一凹槽阵列,向所述第一凹槽阵列中注满透明液体,并固化所述透明液体形成透明触头阵列包括:
在所述衬底上制作出第二凹槽;
在所述第二凹槽的底部制作出所述第一凹槽阵列;
向所述第一凹槽阵列和所述第二凹槽中注满所述透明液体,并固化所述透明液体,形成所述透明介质体和所述透明触头阵列的组合体;
相应的,在所述透明基板上表面制作透明介质体,并将从衬底中转移出的所述透明触头阵列置于所述透明介质体背离所述透明基板的表面包括:
将从所述衬底中转移出的所述组合体置于所述透明基板上,所述透明介质体直接与所述透明基板接触。
9.如权利要求8所述的微型块阵列移动组件的制作方法,其特征在于,在所述衬底上制作出第二凹槽包括:
在所述衬底上涂覆光刻胶,并对光刻胶进行曝光显影;
刻蚀所述衬底形成所述第二凹槽;
在所述第二凹槽的底部制作出所述第一凹槽阵列包括:
在所述第二凹槽的底部涂覆光刻胶,并对光刻胶进行曝光显影;
刻蚀所述第二凹槽的底部形成所述第一凹槽阵列。
10.如权利要求7至9任一项所述的微型块阵列移动组件的制作方法,其特征在于,固化所述透明液体包括:
加热所述透明液体,使所述透明液体固化。
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