[发明专利]一种微型块阵列移动组件及其制作方法在审
申请号: | 202111074897.9 | 申请日: | 2021-09-14 |
公开(公告)号: | CN113683053A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 杨鼎麟;瞿苍宇;聂锦辉;马明;郑泉水 | 申请(专利权)人: | 深圳清华大学研究院;清华大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张艺 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微型 阵列 移动 组件 及其 制作方法 | ||
本申请公开了一种微型块阵列移动组件和制作方法,该组件包括移动部件,移动部件透明基板;位于透明基板上表面的透明介质体;分布在透明介质体背离透明基板的表面的透明触头阵列,透明触头阵列背离透明基板的表面为平面,且透明触头阵列兼具柔性和刚性。本申请中移动部件为透明的,在推岛时可清晰的观察到微型块的运动情况和自回复情况,有利于自回复的判断;透明触头阵列背离透明基板的表面为平面,与微型块为面接触,增加微型块受力均匀性,同时还可以增加与微型块之间的粘附力,提升转移成功率;透明触头阵列可以实现同时对多个微型块进行推岛和转岛,提升推动、转移和自回复判断的效率;透明触头阵列兼具柔性和刚性,避免对微型块造成损伤。
技术领域
本申请涉及超滑岛技术领域,特别是涉及一种微型块阵列移动组件及其制作方法。
背景技术
结构超滑是指两个原子级光滑且非公度接触的范德华固体表面(如石墨烯、二硫化钼等二维材料表面)之间摩擦、磨损几乎为零的现象。
制作结构超滑器件需要对二维材料的超滑岛进行自回复性能判断,用探针进行推岛,岛将会出现上下分层,然后释放探针观察上层分离部分是否发生自回复运动,若自回复,则判定上层部分为超滑片并超滑片从原有材料体系转移至目标基底。目前在对超滑岛进行推岛和转岛时,依靠探针进行操作。使用探针作为工具存在诸多局限,例如,由于探针一次只能对一个超滑岛进行操作,操作效率低,难以实现大规模的推岛和转岛;探针是尖的,与超滑岛之间接触面积小,不仅容易导致超滑岛受力不均匀,在推岛过程中很容易出现旋转失稳,进而出现超滑岛锁死的问题,不利于自回复特性的判断,而且,探针与超滑岛之间的粘附力比较小,且操作技巧性强,导致超滑岛转移成功率较低;另外,探针在推岛过程中会部分遮挡下方的超滑岛,不利于自回复能力的判断。
因此,如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。
发明内容
本申请的目的是提供一种微型块阵列移动组件及其制作方法,以提升对微型块的移动效率和转移成功率,避免微型块推岛时锁死,便于进行自回复判断。
为解决上述技术问题,本申请提供一种微型块阵列移动组件,包括移动部件,所述移动部件包括:
透明基板;
位于所述透明基板上表面的透明介质体;
分布在所述透明介质体背离所述透明基板的表面的透明触头阵列,所述透明触头阵列背离所述透明基板的表面为平面,且所述透明触头阵列兼具柔性和刚性。
可选的,所述透明介质体和所述透明触头阵列为一体式结构。
可选的,所述透明介质体的数量为多个。
可选的,还包括:
位移台,用于调整目标基底和微型块阵列的位移以及当所述透明触头阵列与微型块阵列接触时,在微型块层间施加剪切力。
可选的,还包括:
三维位移架,用于调整所述透明触头阵列的位移。
可选的,还包括:
转角位移台,用于调整目标基底的与转移的微型块之间的相对转角。
本申请还提供一种微型块阵列移动组件的制作方法,包括:
准备衬底和透明基板;
在所述衬底上制作出第一凹槽阵列,向所述第一凹槽阵列中注满透明液体,并固化所述透明液体形成透明触头阵列;其中,第一凹槽的底部为平面,所述透明触头阵列兼具柔性和刚性;
在所述透明基板上表面制作透明介质体,并将从衬底中转移出的所述透明触头阵列置于所述透明介质体背离所述透明基板的表面,其中,所述透明触头阵列底部远离所述透明基板。
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