[发明专利]脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法

权利要求书

1.一种脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，包括：

在有机溶剂的存在下，使底物和臭氧依次进行臭氧化反应和淬灭处理，得到氧化中间体，其中所述底物中的酰胺基团采用对甲氧基苯基进行保护；

使所述氧化中间体与一氧化碳或含有一氧化碳的混合气进行还原反应，以脱除所述对甲氧基苯基；

所述臭氧化反应过程的温度为-30～-10℃，所述底物中对甲氧基苯基与所述臭氧的摩尔数之比为1：（1.0～20.0）；

所述还原反应中，一氧化碳的分压为0.1～2MPa，反应温度为10～90℃，反应时间为0.5～48h；所述底物具有以下结构：

或，

其中，R¹，R²和R³分别独立地选自氢，C_1-5的直链或支链烷基，环丙基，2-羟基丙基，1-羟基乙基，1-叔丁基二甲基硅氧乙基，苯基，对甲基苯基，邻甲基苯基，对氯苯基，邻氯苯基，对溴苯基，邻溴苯基，C_2-6的杂环，乙酰氧基，苯甲酰氧基或特戊酰氧基。

2.根据权利要求1所述的脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，所述底物为（3R，4R）-3-[（R）-1-叔丁基二甲基硅氧乙基]-4-乙酰氧基-1-（4-乙氧基苯基）-2-氮杂环丁酮。

3.根据权利要求1所述的脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，所述臭氧化反应过程还包括在反应过程中加入碱性试剂，

其中，所述碱性试剂选自乙酸钠、乙酸钾、甲酸钠、甲酸钾、碳酸氢钠和碳酸氢钾组成的组中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，所述有机溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇和二氯甲烷组成的组中的一种或多种。

5.根据权利要求3所述的脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，所述底物中对甲氧基苯基与所述碱性试剂的摩尔数之比为1：（0.5～8）。

6.根据权利要求1所述的脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，所述淬灭处理过程包括：采用淬灭剂对所述臭氧化反应的产物进行淬灭，其中所述淬灭剂选自硫代硫酸钠、亚硫酸钠和亚硫酸氢钠组成的组中的一种或多种。

7.根据权利要求6所述的脱除酰胺基团上的对甲氧基苯基保护基的方法，其特征在于，所述底物中对甲氧基苯基与所述淬灭剂的摩尔数之比为1：（1～8）。