[发明专利]工艺参数根因定位方法和相关装置有效
申请号: | 202111104580.5 | 申请日: | 2021-09-22 |
公开(公告)号: | CN113552856B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 成都数之联科技有限公司 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 冯洁 |
地址: | 610000 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工艺 参数 定位 方法 相关 装置 | ||
本发明的实施例提供了一种工艺参数根因定位方法和相关装置,方法包括:分别将制程参数和样本产出时间划分为多个子区间,得到多个第一子区间和多个第二子区间;分别针对每个第一子区间和每个第二子区间,确定各第一子区间的中位数,生成第一参数数据,确定各第二子区间的中位数,生成第一时间数据;对样本标签和第一参数数据进行第一处理后,得到参数趋势波动的相关系数;对样本标签、制程参数数据以及第一时间数据进行第二处理,得到参数时序趋势波动的相关系数;基于参数趋势波动的相关系数和参数时序趋势波动的相关系数,计算得到制程参数综合指标。兼顾参数趋势波动和参数时序趋势波动与标签波动的相关性分析,从而有效识别可疑参数。
技术领域
本发明涉及数据处理领域,具体而言,涉及工艺参数根因定位方法和相关装置。
背景技术
在工业场景中,已实现玻璃自动化生产,其生产过程中,制程设备会自动留存其制作玻璃过程中对应的制程参数实际状态值。对于相同工艺的大批量玻璃,制程设备的参数设定值保持一致,但不同程度的波动情况可能会导致产出不良玻璃。
基于生产参数实时状态记录和精心设计的算法,有效挖掘出参数波动与不良的相关关系是定位不良的设备参数根因的关键所在。
目前对于根因的确定方式,一种为基于经典的Pearson\Kendall相关系数公式,计算样本的制程参数实际状态值与标签值的相关关系。另一种为对参数时序散点图做光滑曲线拟合,包括指数平滑法和平滑样条插值拟合,计算拟合残差平方和,若散点图趋势越平滑,拟合残差越小,参数的波动趋势与玻璃不良相关性越强,说明对应参数是根因的可能性越大。
上述两种方式考虑影响根因的因素不完全,从而导致最终计算的根因不够准确。
发明内容
本发明的目的包括,例如,提供了一种工艺参数根因定位方法和相关装置,其能够兼顾参数趋势波动和参数时序趋势波动与标签波动的相关性分析,有效识别可疑参数。
本发明的实施例可以这样实现:
第一方面,本发明实施例提供了一种工艺参数根因定位方法,所述方法包括:
分别将制程参数和样本产出时间划分为多个子区间,得到多个第一子区间和多个第二子区间;
分别针对每个所述第一子区间和每个所述第二子区间,确定各所述第一子区间的中位数,生成第一参数数据,确定各所述第二子区间的中位数,生成第一时间数据;
对样本标签和所述第一参数数据进行第一处理后,得到参数趋势波动的相关系数;
对所述样本标签、所述制程参数数据以及所述第一时间数据进行第二处理,得到参数时序趋势波动的相关系数;
基于所述参数趋势波动的相关系数和所述参数时序趋势波动的相关系数,计算得到制程参数综合指标。
通过上述技术方案,兼顾参数趋势波动和参数时序趋势波动与标签波动的相关性分析,从而有效识别可疑参数。
在可选的实施方式中,所述分别将制程参数和样本产出时间划分为多个子区间,得到多个第一子区间和多个第二子区间的步骤,包括:
提取制程参数和所述制程参数对应的样本标签;
通过回归数最优分箱算法,将所述制程参数进行区间切分,得到多个第一子区间;
获取所述制程参数、对应的样本标签以及对应的样本产出时间;
基于所述制程参数和所述对应的样本标签,将所述样本产出时间划分为多个第二子区间。
通过上述技术方案,保证将制程参数划分的足够小,从而确保不同第一子区间对应的样本标签足够准确。
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