[发明专利]一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法

说明书

本公开涉及一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法，该方法包括对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割、对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的研磨抛光和腐蚀以及对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的缺陷测试；该方法通过倾斜切割、用腐蚀剂腐蚀切割面，使得接近切割面的缺陷部位能够暴露，缺陷更容易被发现，进而更容易被测试。另外，该方法利用能谱仪快速分析，并结合电子探针精确的定性分析，可以高效、准确、快捷的确定缺陷成分。

技术领域

本公开涉及材料性能测试领域，具体地，涉及一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法。

背景技术

随着显示效果的不断提升，显示技术的快速发展，对薄与超薄玻璃的各项性能也相应的提高。铂金通道是玻璃基板、柔性超薄玻璃等制品的重要设备，在生产过程中起到澄清、均化、流量控制等重要作用。在该过程中，由于高温使用环境等原因，不可避免的在玻璃制品中产生少量铂铑缺陷，如铂铑颗粒(三维缺陷)、规则形铂铑缺陷(二维缺陷如三角形、四边形、六边形；一维缺陷如针状、棒状)等。

缺陷的成分测试是对策的关键，但在铂铑缺陷成分测试时，一维缺陷的样品制备、成分测试存在如下问题：

成分测试常用电子探针或能谱仪，需将缺陷暴露才能进行测试；而对于一维缺陷，当垂直于缺陷切割时，缺陷裸露呈微米级点状，在显微系统下难以发现缺陷，因高倍下影像漂移等问题，测试选区或选点难度更是大大增加。

发明内容

本公开的目的是提供一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法，该方法可以准确寻找并针对性测试缺陷区域，快速、便捷，该方法不仅适用于薄玻璃产品，还适用于其他厚度的玻璃或研发过程中的玻璃样品。

为了实现上述目的，本公开的第一方面提供一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备方法，该制备方法包括如下步骤：

S1、含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割：观察玻璃产品中所述微米级一维铂铑缺陷的形貌、尺寸，确定所述微米级一维铂铑缺陷的位置，以切割线与所述微米级一维铂铑缺陷呈α的角度进行切割，得到含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品；S2、含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的研磨抛光：将所述含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割面进行先研磨后抛光至镜面级；S3、含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的腐蚀：采用腐蚀剂对所述镜面级切割面进行腐蚀。

可选地，在步骤S1中，所述α的范围为0-30°，优选为0-15°。

可选地，在步骤S2中，所述研磨采用砂纸进行研磨，所述抛光使用稀释的氧化铈在抛光布上进行抛光。

可选地，在步骤S2中，所述研磨抛光还包括在研磨抛光后观察所述切割面的形貌，所述研磨抛光后的含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面呈断点状或拖尾状。

可选地，在步骤S3中，所述腐蚀剂包括稀释的HF或NaOH。

可选地，当采用所述稀释的HF腐蚀时，所述HF的浓度为10-30％，腐蚀温度为20-50℃。

可选地，当采用所述稀释的NaOH腐蚀时，所述NaOH的浓度为5-15，腐蚀温度为40-50℃。

本公开第二方方面提供一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的缺陷测试方法，所述测试方法包括利用喷涂仪对所述含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割面进行喷碳处理。

可选地，所述喷碳处理的喷碳厚度为10-30nm。

可选地，所述测试方法还包括将所述含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品置于电子探针或能谱仪样品室中，观察显微形貌并进行成分测试。