[发明专利]一种具有高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂

权利要求书

1.一种具有高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，其特征在于：由50-70重量份的碱溶性树脂、15-40重量份光聚合化合物、1.0-8.0重量份的光引发剂、0.1-2.0重量份其他助剂组成。

2.根据权利要求1所述的高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，其特征在于该碱溶性树脂为（甲基）丙烯酸类树脂、苯乙烯类树脂、酚醛类树脂、纤维素乙酸-邻苯二价酸酯、乙基羟基乙基纤维素邻苯二甲酸酯中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，其特征在于该光聚合化合物包括：丙烯酸月桂酯、丙烯酸异癸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、丙氧化壬基苯酚丙烯酸酯、N-乙烯基己内酰胺及羟丁基乙烯基醚中的一种或多种组合物。

4. 根据权利要求1所述的高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，其特征在于该光引发剂为4,4’,5,5’‐四苯基二咪唑、2-(o- 氯苯基 )-4，5- 二苯基二咪唑、2,4-三氯甲基-6-三嗪、二苯甲酮、苯偶姻双甲醚、2‐异丙基噻吨酮、1，4- 二甲基巯基苯、N,N‐二甲基乙醇胺、季戊四醇四硫代甘醇酸酯、对叔丁基三氯苯乙酮、2,4-二甲基噻吨酮、苄基酮二甲基缩醛及2‐氯硫杂蒽酮中的至少1种。

5.根据权利要求1所述的高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，其特征在于其他助剂包含稀释剂、增塑剂、染色剂、成色剂、抗氧化剂、热聚合抑制剂、消泡剂、阻燃剂和流平剂中的一种或多种。

6.根据权利要求5所述的高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，其特征在于所述染色剂由隐色结晶紫、品红、酞菁绿、酞青蓝、萤烷、孔雀绿、罗丹明等其中至少一种按照任意配比组成；所述附着力促进剂为硫醇化合物；增塑剂包括：邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二烯丙酯、四乙二醇二乙酸酯、苯磺酰胺、磷酸三苯酯等中的至少一种。

7. 一种高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂的制备方法，其特征在于，包含如下步骤：

碱溶性树脂的合成

光致抗蚀剂浆液的制备：将碱溶性树脂、光聚合化合物、光引发剂、其他助剂、按配方加入溶剂中，混合至均匀，搅拌，除掉未溶解杂质，备用；

感光干膜的制备：将上述光致抗蚀剂浆液，采用涂布机，涂布到基材（PET）上，于60～80℃下烘烤，形成光致抗蚀剂膜层；在光致抗蚀剂膜层上包覆PE膜，分切、热封、收卷，得到感光干膜样品。

8.如权利要求1所述的高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂，用于激光扫描曝光。