[发明专利]清洁装置及其控制方法在审

专利信息
申请号: 202111110302.0 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN113749576A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 高新忠;高令宇;方恩光;唐美平;邓杰 申请(专利权)人: 杭州英乐特智能科技有限公司
主分类号: A47L11/292 分类号: A47L11/292;A47L11/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311228 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 清洁 装置 及其 控制 方法
【权利要求书】:

1.清洁装置,包括装置主体,其特征在于:装置主体上安装有用于对地面进行清洁处理的旋滚组件,且旋滚组件还用于驱动清洁装置在地面上移动;

旋滚组件安装于装置主体的底部位置上;

旋滚组件包括可分别固定清洁器的第一旋滚、第二旋滚和第三旋滚,且第一旋滚、第二旋滚和第三旋滚均设置为可相对地面旋转滚动运动的结构;

装置主体内还设置控制器,当控制器控制第一旋滚旋转滚动且控制至少第二旋滚、第三旋滚中的其中一个进行旋转滚动时旋转滚动的各清洁器可驱动清洁装置在地面上移动。

2.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于:装置主体内还设置驱动器,控制器与驱动器电性相连,驱动器至少包括与第二旋滚相连的第二驱动组件和与第三旋滚相连的第三驱动组件来使得第二旋滚和第三旋滚形成为可相互独立旋转滚动运动的结构。

3.根据权利要求2所述的清洁装置,其特征在于:控制器内设置有阈值Q,阈值Q至少包括当控制第一旋滚沿M方向进行旋转滚动时则控制第二旋滚或第三旋滚沿M方向进行旋转滚动。

4.根据权利要求1、2或3所述的清洁装置,其特征在于:第一旋滚设置为位于第二旋滚和第三旋滚的一侧位置,且第一旋滚与第二旋滚和第三旋滚之间设置有第一间隙部;

第二旋滚和第三旋滚设置为呈并列分布结构且第二旋滚和第三旋滚之间设置有第二间隙部;

至少第一旋滚的一部分设置为位于第二间隙部在装置主体上对应的区域位置朝向第一旋滚方向延伸的区域位置内。

5.根据权利要求4所述的清洁装置,其特征在于:设置第一间隙部在竖直方向上的距离为H1且设置第二间隙部在水平方向上的距离为H2并设置H1大于H2;

或,设置第一旋滚在水平方向上的距离L1大于等于第二间隙部在水平方向上的距离H2;

或,设置第二间隙部的两侧端面位置位于第一旋滚的两侧端面之间在装置主体上对应的区域位置朝向第二间隙部方向延伸的区域位置内。

6.根据权利要求4所述的清洁装置,其特征在于:设置第一旋滚上靠近第二旋滚的侧端面位置位于第二旋滚的两侧端面之间在装置主体上对应的区域位置朝向第一旋滚方向延伸的区域位置内;

和/或;

设置第一旋滚上靠近第三旋滚的侧端面位置位于第三旋滚的两侧端面之间在装置主体上对应的区域位置朝向第一旋滚方向延伸的区域位置内。

7.根据权利要求1、5或6所述的清洁装置,其特征在于:设置第二旋滚的旋转滚动的轴线和第三旋滚的旋转滚动的轴线为在水平方向上的同一轴线;

或,设置第二旋滚的外径和/或第三旋滚的外径小于等于第一旋滚的外径。

8.根据权利要求4所述的清洁装置,其特征在于:第二旋滚上远离第二间隙部的侧端面位置位于装置主体上靠近第二旋滚的侧部端面以内,和/或第三旋滚上远离第二间隙部的侧端面位置位于装置主体上靠近第三旋滚的侧部端面以内。

9.根据权利要求8所述的清洁装置,其特征在于:设置第二旋滚上远离第二间隙部的端面到装置主体上靠近第二旋滚的侧部端面的距离为K1且设置K1小于等于第二旋滚的外径或K1小于等于30毫米;

和/或,

设置第三旋滚上远离第二间隙部的端面到装置主体上靠近第三旋滚的侧部端面的距离为K2且设置K2小于等于第三旋滚的外径或K2小于等于30毫米。

10.根据权利要求4所述的清洁装置,其特征在于:第一旋滚上靠近第二旋滚的外侧部的最大外径位置到第二旋滚上靠近第一旋滚的外侧部的最大外径位置的距离大于等于第一旋滚的最大外径值的一半;

和/或,第一旋滚上靠近第三旋滚的外侧部的最大外径位置到第三旋滚上靠近第一旋滚的外侧部的最大外径位置的距离大于等于第一旋滚的最大外径值的一半;

和/或,第一间隙部在竖直方向上的距离H1大于等于第一旋滚的最大外径值的一半。

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