[发明专利]一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法在审

专利信息
申请号: 202111111328.7 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113808964A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 郑文昭;李彪;张乐银;向圆;欧阳径桥;刘仲敏 申请(专利权)人: 华东光电集成器件研究所
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/603
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233030 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 芯片 尺寸 异质共晶 方法
【权利要求书】:

1.一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于包括以下步骤:

1).将助焊膏(2)通过四角四点法涂抹在镀镍管壳(1)底部对应的焊料片待粘位置,把焊料片(3)粘在镀镍管壳(1)底部待粘位置后,再在焊料片(3)上点滴助焊剂(4),然后将所需芯片(5)粘接在焊料片(3)上;

2). 把粘好芯片的镀镍管壳,送入烘箱在80℃条件下烘烤5分钟;

3).在烘烤过的所有芯片上压上配重块(6),放入回流炉内进行烧结,烧结过程为第一段230℃条件下预热4分钟,第二段250℃条件下预热4分钟; 310℃恒温条件下共晶6分钟,最后进入冷却区。

2.根据权利要求1所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:所述配重块压强要求5N/mm2

3.根据权利要求1所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:镀镍管壳在使用前进行预处理,采用超声清洗和等离子清洗,超声清洗的时间为11-15分钟,超声清洗的功率为300-500W;采用等离子清洗时间为7-9分钟,等离子清洗的射频功率为25-50W。

4.根据权利要求1所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:助焊膏选用国产华茂翔HXF100A。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:芯片(5)及焊料片(3)为正方形,焊料片的边长大于芯片0.4mm。

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