[发明专利]一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法在审
申请号: | 202111111328.7 | 申请日: | 2021-09-23 |
公开(公告)号: | CN113808964A | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | 郑文昭;李彪;张乐银;向圆;欧阳径桥;刘仲敏 | 申请(专利权)人: | 华东光电集成器件研究所 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/603 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 | 代理人: | 杨晋弘 |
地址: | 233030 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 芯片 尺寸 异质共晶 方法 | ||
1.一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于包括以下步骤:
1).将助焊膏(2)通过四角四点法涂抹在镀镍管壳(1)底部对应的焊料片待粘位置,把焊料片(3)粘在镀镍管壳(1)底部待粘位置后,再在焊料片(3)上点滴助焊剂(4),然后将所需芯片(5)粘接在焊料片(3)上;
2). 把粘好芯片的镀镍管壳,送入烘箱在80℃条件下烘烤5分钟;
3).在烘烤过的所有芯片上压上配重块(6),放入回流炉内进行烧结,烧结过程为第一段230℃条件下预热4分钟,第二段250℃条件下预热4分钟; 310℃恒温条件下共晶6分钟,最后进入冷却区。
2.根据权利要求1所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:所述配重块压强要求5N/mm2。
3.根据权利要求1所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:镀镍管壳在使用前进行预处理,采用超声清洗和等离子清洗,超声清洗的时间为11-15分钟,超声清洗的功率为300-500W;采用等离子清洗时间为7-9分钟,等离子清洗的射频功率为25-50W。
4.根据权利要求1所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:助焊膏选用国产华茂翔HXF100A。
5.根据权利要求1、2、3或4所述的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于:芯片(5)及焊料片(3)为正方形,焊料片的边长大于芯片0.4mm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造