[发明专利]一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法在审

专利信息
申请号: 202111111328.7 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113808964A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 郑文昭;李彪;张乐银;向圆;欧阳径桥;刘仲敏 申请(专利权)人: 华东光电集成器件研究所
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/603
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233030 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 芯片 尺寸 异质共晶 方法
【说明书】:

本发明涉及一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,包括以下步骤:1).将助焊膏涂抹在镀镍管壳底部,把焊料片粘在使镀镍管壳底部,在焊料片上点滴助焊剂,将芯片粘接在焊料片上;2).把粘好芯片的镀镍管壳在80℃烘烤5分钟;3).在烘烤过的镀镍管壳放入回流炉内进行烧结,烧结过程为第一段230℃条件下预热4分钟,第二段250℃条件下预热4分钟;310℃恒温条件下共晶6分钟,最后进入冷却区。发明有效提升了现有的效率,而针对于多芯片共晶不需要制作特殊工装限位,节省开模加工时间和成本,采用镀镍管壳和金锡焊料共晶较之前降低成本三分之一,且参数均达到需求,效果显著。

技术领域

本发明涉及大功率器件共晶技术领域,具体是一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法。

背景技术

大功率器件是指在高电压、大电流的条件下工作的晶体管,相比较于其他的器件,功率芯片需要较好的散热,为保证其散热效果,需要将芯片共晶到带有热沉的管壳上以保证具有良好的散热率。芯片共晶有多种共晶方式以及多种材料间不同的共晶条件,而最常用的工艺一般分为两种:第一种方法,铅锡银焊料与镀镍类材料共晶,这种工艺适用于SMT和混合厚膜集成电路的加工制造,第二种方法,金锡焊料和镀金类材料共晶,这种工艺多见于半导体电路加工制造。

大功率器件现为降低成本并在原有基础上提高散热效果,开始采用镀镍管壳和金锡焊料片共晶的方式,镀镍管壳相较于同尺寸的镀金管壳价格更为低廉,金锡焊料的散热率远远高于铅锡银焊料且成本增加较管壳成本下降可以忽略不计。但是镀镍管壳和金锡焊料采用以往的加工方式时熔融温度较高,共晶难度较大,且共晶过程多靠石墨模进行限位。石墨模开模成本高,而因芯片均较小,所以石墨模进行线切割时难度大,增大了准备周期。

经过对现有专利检索,中国专利《共晶芯片组件的烧结方法》(专利号CN107731695A),主要是针对多芯片组的共晶粘片,通过真空共晶炉进行两次共晶烧结,解决了合金焊料易氧化问题,但是进行两次烧结,烧结时间较一次烧结仍然较长,并且合金材料过于笼统,不同种材料进行烧结共晶时面临的环境差异较大没有表述。

发明内容

本发明的目的就是为了解决镀镍管壳和金锡焊料共晶难度较大、成本高的缺陷,提供的一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法。

本发明采用了如下技术方案:

一种基于多芯片小尺寸的异质共晶方法,其特征在于包括以下步骤:

1).先进行焊料片粘片,将助焊膏通过四角四点法涂抹在镀镍管壳1的底部对应的焊料片待粘位置,通过四角四点的助焊膏把焊料片粘在使镀镍管壳底部后,再在焊料片上点滴助焊剂4,然后将所需芯片粘接在焊料片上;

2). 把粘好芯片的镀镍管壳进行烘烤,因为金锡焊料的熔点是280℃,而助焊膏的挥发温度为300℃,所以采用80℃烘箱条件下烘烤5分钟去除水气,增大金锡焊料和芯片之间的连接,方便转移且不需制定特殊工装限位;

3)镀镍管壳共晶烧结:在烘烤好的镀镍管壳中的芯片上压上配重块,放入回流炉内进行烧结,烧结过程为第一段预热,230℃条件下预热4分钟;第二段预热,250℃条件下预热4分钟;恒温共晶,310℃条件下共晶6分钟,进入冷却区。

在上述技术方案的基础上,有以下进一步的技术方案:

所述配重块压强要求5N/mm2

管壳在使用前进行预处理,预处理方法包括:超声清洗和等离子清洗。超声清洗的时间为11-15分钟,超声清洗的功率为300-500W,等离子清洗时间为7-9分钟,等离子清洗的射频功率为25-50W。

助焊膏选用国产华茂翔HXF100A,此为无卤素无松香助焊膏。

焊料片的面积大于芯片面积,共晶芯片为正方形,焊料片为正方形,焊料片的边长大于芯片0.4mm。

发明的有益效果

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