[发明专利]一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法在审
申请号: | 202111117674.6 | 申请日: | 2021-09-23 |
公开(公告)号: | CN113846326A | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 李辛未;贺贤汉;李炎;马敬伟 | 申请(专利权)人: | 江苏富乐德半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/40 | 分类号: | C23F1/40;C23D5/00;C23C18/42;C22B7/00;C22B11/00;C03C8/00 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 张强 |
地址: | 224200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 覆铜基板 表面 化学 镀银 方法 | ||
1.一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述制备工艺包括以下步骤:
S1:取陶瓷覆铜基板,镀银;
S2:挑选不良品,进行退镀;
S3:将退镀后的陶瓷覆铜基板进行水洗,中和,再水洗,烘干后,准备镀银。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述退镀包括以下步骤:
S1:配置退镀液:将高锰酸钾、氢氧化钠、氨水混合均匀;
S2:退镀:将陶瓷覆铜基板浸没于退镀液中,退镀后,在退镀液中通入一氧化碳,回收单质银;
S3:将退镀后的陶瓷覆铜基板超声处理3-5min。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述S1步骤中的退镀液所需材料包括,以浓度计:高锰酸钾10-15g/L、氢氧化钠20-30g/L、氨水10-15mL/L。
4.根据权利要求2所述的一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述S2步骤中退镀液的温度为40-50℃,浸泡时间为60-180S。
5.根据权利要求2所述的一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述S2退镀过程中,应处于封闭环境中。
6.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述S1步骤中陶瓷覆铜基板得制备工艺包括以下步骤:
A:将氧化铝放入烘箱中进行干燥处理,将硬脂酸溶于乙醇中,混合均匀后加入干燥好的氧化铝,混合均匀,40-60℃下反应20-40min,干燥即得改性氧化铝;
将改性氧化铝、二氧化硅复合材料、氧化硼、氧化钛制成陶瓷瓷釉,均匀喷涂在铝板上;
B:对铜箔进行氧化处理,形成氧化铜层,
C:将氧化铜层与铝基板贴合,通入氦气加热至1000-1200℃,再进行烧结即得陶瓷覆铜基板。
7.根据权利要求6所述的一种陶瓷覆铜基板表面化学镀银退镀方法,其特征在于:所述二氧化硅复合材料制备工艺包括以下步骤:
将硅酸钠溶于硫酸中,60-80℃反应20-40min,乙醇胺调节溶液pH至7-9,加入γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷,60-80℃反应20-40min,草酸调节溶液pH至3-5,在60-80℃下继续反应1-2h,洗涤、过滤、干燥得改性二氧化硅;
将多聚甲醛、γ―氨丙基三乙氧基硅烷加入甲苯中,混合均匀,反应20-40min,再加入2,2-双(4-羟基苯基)丙烷,升温至75-90℃,回流4-6h,抽滤2-3次后,旋转蒸发除去溶剂,减压蒸馏除去杂质后,加入改性二氧化硅,混合均匀,固化得二氧化硅复合材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏富乐德半导体科技有限公司,未经江苏富乐德半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111117674.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。