[发明专利]污染检测方法、分光检测方法、分光管理方法及系统

权利要求书

1.一种污染检测方法，其特征在于，包括：

光照处理，采用检测光照射透明转盘的置料位，以使检测光穿过透明转盘；

基于穿出透明转盘的检测光，确定测定参数；其中，所述测定参数能够反映透明转盘的透光程度；

偏差获取，基于所述测定参数，获取偏差参数；其中，所述偏差参数能够反映透明转盘的污染程度；

基于所述偏差参数与偏差阈值，输出清洁信号；其中，所述偏差阈值用于反映透明转盘污染程度的允许范围。

2.根据权利要求1所述的污染检测方法，其特征在于，在偏差获取步骤中，还包括：

判断数据库中是否存在基础参数，若否则执行参数校正步骤，若是则执行偏差确定步骤；其中，基础参数能够反映透明转盘在参数校正步骤时的透光程度；

参数校正，基于测定参数与原始参数，获取基础参数，将基础参数存储至数据库，并且返回光照处理步骤；其中，所述原始参数对应于检测光发出时的光学参数；

偏差确定，基于测定参数与基础参数，获取偏差参数。

3.根据权利要求2所述的污染检测方法，其特征在于，在偏差获取步骤之前，还包括：实时接收校正指令，并根据校正指令，在数据库中清除基础参数。

4.一种分光检测方法，其特征在于，包括权利要求2至3中任意一项所述的污染检测方法，还包括：

工件上料，将LED置于透明转盘的置料位；

工件分级， 根据LED的亮度变化确定工件测试参数，基于工件测试参数和工件标准参数，确定工件分光等级；其中，工件标准参数关联于标准LED发出光穿出透明转盘后所对应的光学参数，工件测实测参数用于反映穿出透明转盘的LED发出光的光学参数；

工件转移，基于工件分光等级，将LED自置料位转移至对应于工件分光等级的分光收集区；

污染清洁，基于清洁信号，清空当前透明转盘上的LED，对透明转盘进行清洁。

5.根据权利要求4所述的分光检测方法，其特征在于，在清洁污染的步骤中，包括：

转盘清空，停止将LED上料至透明转盘，并将透明转盘已承载的LED全部转移；

转盘清洁，将透明转盘高度降低，对透明转盘上所有置料位的上表面与下表面进行清洁。

6.根据权利要求5所述的分光检测方法，其特征在于，在转盘清空的步骤中，基于清洁信号，立即停止将LED上料至透明转盘的动作。

7.根据权利要求5所述的分光检测方法，其特征在于，在转盘清空步骤中，基于清洁信号，自被检测的置料位开始停止将LED上料至透明转盘的动作。

8.一种分光管理方法，其特征在于，包括权利要求4至8中任意一项所述的分光检测方法，在工件分级步骤之前，还包括：

标准更新，基于校正条件，更新工件标准参数；其中，校正条件包括：分光检测的工件数量达到设定值或分光检测的时间达到设定值。

9.根据权利要求8所述的分光管理方法，其特征在于，在标准确定步骤中，还包括：基于校正条件，发送校正指令，以使基础参数从数据库中清除。

10.一种分光管理系统，其特征在于，包括：

工件上料模组，用于将LED置于透明转盘的置料位；

工件分级模组，用于根据LED的亮度变化确定工件参数，基于工件测试参数和工件标准参数，确定工件分光等级；

工件转移模组，用于根据工件分光等级将LED自置料位转移至与工件分光等级相对应的分光收集区；

污染检测模组，用于采用检测光穿过透明转盘的置料位，基于穿出透明转盘的检测光确定测定参数，基于所述测定参数与原始参数，获取偏差参数，基于所述偏差参数与偏差阈值输出清洁信号；其中，所述偏差参数能够反映透明转盘置料位处的污染程度，所述原始参数对应于检测光自然照射状态下的光学参数，所述偏差阈值与透明转盘的污染程度相关联；

清洁污染模组，用于基于清洁信号，清空当前透明转盘上的LED，并对透明转盘进行清洁。