[发明专利]数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法有效
| 申请号： | 202111128575.8 | 申请日： | 2021-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN113896570B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 潘利敏;邓来福;汪庆刚;王贤超;庞伟科;黄玲艳 | 申请（专利权）人： | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89;C03C8/00 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;牛彦存 |
| 地址： | 528211 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 数码 浮雕 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.一种数码浮雕陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
在陶瓷岩板坯体表面施底釉；
在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案；
在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理；
在喷墨打印窑变釉后的坯体表面施保护釉；
烧成。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40～45%、Al2O3：14～18%、碱土金属氧化物：23～29%、碱金属氧化物：2.5～4.5%、ZrO2：5.0～7.0%、F：2.0～3.0%。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述窑变釉的比重为1.60～1.80g/cm3，施加量为100～400 g/m2。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的化学组成包括，以质量百分比计：SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、碱土金属氧化物：0.2～1%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、ZrO2：6.0～10.0%。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的比重为1.25～1.40 g/cm3，施加量为300～650 g/m2。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：43～48%、Al2O3：21～23%、碱土金属氧化物：13～16%、碱金属氧化物：4.0～6.0%、ZnO：5.0～6.0%。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述保护釉的比重为1.20～1.30 g/cm3，施加量为150～200 g/m2。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的制备方法，其特征在于，窑变釉的始融温度为1080～1130℃；保护釉的始融温度为1100～1150℃；优选地，窑变釉和保护釉的始融温度差值控制在20～50℃。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的制备方法，其特征在于，最高烧成温度为1180～1220℃，烧成周期为60～180分钟。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法获得的数码浮雕陶瓷岩板。
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