[发明专利]数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法有效
申请号: | 202111128575.8 | 申请日: | 2021-09-26 |
公开(公告)号: | CN113896570B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 潘利敏;邓来福;汪庆刚;王贤超;庞伟科;黄玲艳 | 申请(专利权)人: | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C03C8/00 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;牛彦存 |
地址: | 528211 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 数码 浮雕 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
本发明公开数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤:在陶瓷岩板坯体表面施底釉;在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案;在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理;在喷墨打印窑变釉后的坯体表面施保护釉;烧成。该方法通过数码浮雕工艺与窑变釉结合,开发出一系列数码浮雕陶瓷岩板,板面立体感强,装饰效果丰富。
技术领域
本发明涉及数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法,属于建筑陶瓷生产制造技术领域。
背景技术
随着全球陶瓷行业进入飞速发展的大时代以及家装行业全屋定制的盛行,全国兴起岩板热潮,由此国内岩板形成百家争鸣的局势。目前模具面陶瓷岩板主要通过以下工艺实现:1、在平面砖坯表面辊筒印刷凸釉。此方式装饰效果相对单一,精细程度局限。2、喷墨打印雕刻墨水并施加保护釉。虽然可以形成立体雕刻纹理,但是会导致保护釉剥开。通常保护釉的高温粘度较大,为形成立体感强的雕刻纹理需要较高的保护釉施加量,但是这容易导致保护釉的透感和发色差,而保护釉的施加量低会导致雕刻深度浅而影响立体效果。3、通过传统模具压制形成模具纹理,开模成本高,优等率低。4、剥开底釉然后喷普通釉料,雕刻装饰效果同样单一。5.先打印精雕墨水并剥开面釉以在固定位置形成立体浮雕效果,然后喷墨打印图案和喷保护釉。虽然能够产生立体浮雕效果,缺点在于喷墨打印图案需要和坯体纹理进行精准对位,否则容易产生蒙花错位,另外仅依赖喷墨图案实现的色域相对窄,没有窑变效果。
发明内容
针对上述问题,本发明提供一种数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法,该方法通过数码浮雕工艺与窑变釉结合,开发出一系列数码浮雕陶瓷岩板,板面立体感强,装饰效果丰富。
第一方面,本发明提供一种数码浮雕陶瓷岩板的制备方法。所述制备方法包括:
在陶瓷岩板坯体表面施底釉;
在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案;
在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理;
在喷墨打印窑变釉后的坯体表面施保护釉;
烧成。
本发明所述制备方法通过数码技术定位打印窑变釉,相较于喷墨打印精雕墨水剥开底釉形成浮雕纹理而言,在很大程度上节约了窑变釉用量,且可以在局部定位实现晶花效果。又因窑变釉相比普通釉的烧成范围相对窄,能够避免烧成制度波动引起砖面缺陷,且定位打印窑变釉也阻止大面积打印窑变釉引入的釉面缺陷。
较佳地,所述窑变釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:40~45%、Al2O3:14~18%、碱土金属氧化物:23~29%、碱金属氧化物:2.5~4.5%、ZrO2:5.0~7.0%、F:2.0~3.0%。将窑变釉的化学组成控制在上述范围能够确保釉料在现有烧成制度下具有适合的高温粘度,能够产生相互融合的类似窑变效果。
较佳地,所述窑变釉的比重为1.60~1.80g/cm3,施加量为100~400g/m2。
较佳地,所述底釉的化学组成包括,以质量百分比计:SiO2:55~60%、Al2O3:21~24%、碱土金属氧化物:0.2~1%、碱金属氧化物:6.0~8.0%、ZrO2:6.0~10.0%。
较佳地,所述底釉的比重为1.25~1.40g/cm3,施加量为300~650g/m2。
较佳地,所述保护釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:43~48%、Al2O3:21~23%、碱土金属氧化物:13~16%、碱金属氧化物:4.0~6.0%、ZnO:5.0~6.0%。
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