[发明专利]一种祛痘抑瘢面膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111133619.6 申请日: 2021-09-26
公开(公告)号: CN113648243A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 张迎;章一新;陈云生;张铮 申请(专利权)人: 上海交通大学医学院附属第九人民医院
主分类号: A61K8/84 分类号: A61K8/84;A61K8/02;A61K8/36;A61K8/60;A61K8/64;A61K8/65;A61P17/10;A61Q19/00;A61Q19/02;C08G83/00;B82Y5/00;B82Y40/00
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 代理人: 黄志达
地址: 200011 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 祛痘抑瘢 面膜 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及一种祛痘抑瘢面膜及其制备方法,所述面膜组分包括明胶、Cu‑BTC/ASON纳米材料、维A酸。本发明制备的纳米纤维素面膜,是一种干燥的固体薄膜,方便运输及储存,无需添加防腐剂等辅剂,使用前仅需用纯净水或化妆水浸润即可。该面膜透气性好,易于透皮递药,祛痘抑瘢效果明显。本产品制备方法简单,能实现大批量生产。

技术领域

本发明属于功能性面膜及其制备领域,特别涉及一种祛痘抑瘢面膜及其制备方法。

背景技术

痤疮通常是由于丙酸杆菌感染,皮脂过度分泌,雄激素分泌旺盛,毛囊角化异常形成脂栓,引发炎症等导致的。好发于青少年,又称“青春痘”、粉刺。

机体遭受重度痤疮时易于形成瘢痕,瘢痕是皮肤受到伤害后自我修复产生的,是由于大量胶原纤维增生、堆积而成。根据组织病理学特点及临床特点的区别将其分类,可分为表浅性瘢痕、萎缩性瘢痕、增生性瘢痕、瘢痕疙瘩。瘢痕的发生具有一定的遗传易感性,可调控关键基因的表达,抑制瘢痕的生成。反义寡核苷酸技术是利用人工制备或生物体合成目标顺序的反义DNA或反义RNA片段,可特异性的与目标mRNA或DNA互补,抑制该基因转录阻碍其表达,使其功能丧失。选择性地降解含该子序列高度同源的基因家族并抑制其表达,因此具有转染效率高、特异性强、活性高等特点。

面膜是一种短期封包皮肤护理类护肤品,可实现皮肤补水、保湿、清洁、改善外观等多种功能,还可实现皮肤病的治理。当今市场用于抗痘的面膜已设计出较多产品,但对于抗痘后瘢痕修复的研究较少,针对现有技术缺陷,急需研制一种祛痘抑瘢效果明显,祛痘快速,无瘢痕产生,安全无副作用的祛痘抑瘢纳米纤维复合方面膜。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种祛痘抑瘢面膜及其制备方法,克服现有技术瘢痕性增生无法有效修复的缺陷。

本发明的一种祛痘抑瘢面膜,所述面膜组分包括明胶、Cu-BTC/ASON纳米材料、维A酸。

所述Cu-BTC/ASON纳米材料为热休克蛋白和金属有机框架材料Cu-BTC进行自组装获得。

本发明的一种祛痘抑瘢面膜的制备方法,包括:

将明胶加入溶剂中,搅拌8-12h,然后加入Cu-BTC/ASON纳米材料和维A酸,得到混合溶液,静电纺丝,得到祛痘抑瘢面膜。

上述制备方法的优选方式如下:

所述明胶加入溶剂中后的质量百分浓度为6-10%,其中溶剂为六氟异丙醇;混合溶液中Cu-BTC/ASON纳米材料的质量百分含量为0.01-0.2%,维A酸的质量百分含量为0.001-0.1%。

所述Cu-BTC/ASON纳米材料具体为:将热休克蛋白HSP47反义寡核苷酸5’-CATGGCTGGGAGGTG-3’磷酸化处理,并与铜为中心的金属有机框架材料Cu-BTC溶液混合,该核苷酸的磷酸基团与中心铜原子发生自组装,得到Cu-BTC/ASON纳米材料。

所述热休克蛋白HSP47反义寡核苷酸和铜为中心的金属有机框架材料Cu-BTC的摩尔比为104:2-105:2。

所述铜为中心的金属有机框架材料Cu-BTC具体为:铜离子溶液中加入有机配体和表面活性剂,20-60℃水浴,搅拌均匀反应5-20分钟,静置室温,10000-20000r/min离心,去离子水清洗3次,制备得到以铜为中心的金属有机框架材料Cu-BTC。

所述铜离子溶液的质量百分浓度为5-15%,铜离子溶液为氯化铜、硝酸铜或乙酸铜溶液;所述有机配体为均苯三甲酸;表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮PVP,分子量大小为3-5万;所述有机配体加入后的质量百分浓度为2-15%。

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