[发明专利]一种超声波雾化浓缩装置

权利要求书

1.一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：包括外壳体（1）、雾化片（2）、除雾器（3）和一级分离罩（4），外壳体（1）内上下分别为分离腔（12）和雾化腔（11），分离腔（12）底部与雾化腔（11）连通，雾化腔（11）和分离腔（12）连接处设置有一级分离罩（4），雾化腔（11）内部设有雾化片（2），分离腔（12）顶部设置有除雾器（3），待浓缩液体置于雾化腔（11）内；

所述一级分离罩（4）为伞形罩，一级分离罩（4）罩装在分离腔（12）底部，一级分离罩（4）与分离腔（12）之间开设有一级通孔（41），雾化腔（11）顶部具有一个尖口（11-1），尖口（11-1）置于一级分离罩（4）内部；

所述雾化腔（11）分为液体反应室（111）和风室（112）两部分，液体反应室（111）内设置有超声波雾化片（2），待浓缩液体置于液体反应室（111）内，风室（112）内安装有风扇（5），风室（112）底部加工有与外界连通的进风口（1121），风室（112）顶部加工有与液体反应室（111）连通的出风口（1122）。

2.根据权利要求1所述的一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：所述出风口（1122）位置高于液体反应室（111）内待浓缩液体的最高液面；

所述分离腔（12）为圆球状腔体结构，所述分离腔（12）底部与雾化腔（11）通过导流管（6）连通。

3.根据权利要求2所述的一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：还包括于分离腔（12）中部的二次分离组（7），所述二次分离组（7）包括分离隔层（71）和二级分离罩（72），分离隔层（71）将分离腔（12）分为二级分离室（121）和一级分离室（122）上下两部分，分离隔层（71）上加工有进汽口（711）和二级导流口（712），分离隔层（71）的进汽口（711）和二级导流口（712）顶部设置有二级分离罩（72）。

4.根据权利要求3所述的一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：所述二级分离罩（72）为伞形罩，二级导流口（712）设置于二级分离罩（72）内侧，二级分离罩（72）与分离隔层（71）之间开设有二级通孔（721）。

5.根据权利要求4所述的一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：所述分离隔层（71）中部具有一个尖口部（71-1），尖口部（71-1）顶端设置在二级分离罩（72）内部，分离隔层（71）的四周向中部的尖口部（71-1）处凹陷。

6.根据权利要求5所述的一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：还包括雾化挡板（8），雾化挡板（8）通过连接柱（81）设置在雾化腔（11）顶部开口处。

7.根据权利要求3所述的一种超声波雾化浓缩装置，其特征在于：还包括操作控制板（9），操作控制板（9）分别与超声波雾化片（2）和风扇（5）电性连接。

8.一种超声波雾化浓缩方法，是基于权利要求7所述一种超声波雾化浓缩装置实现的，其特征在于：

步骤1，待浓缩液体通过雾化片（2）雾化成水雾进入分离腔（12），其中水雾里的小分子水雾穿过一级分离罩（4）从分离腔（12）顶部的除雾器（3）排出，大分子水雾在一级分离罩（4）底部聚集成水珠后下落，从分离腔（12）底部流回雾化腔（11）；

步骤2，所述小分子水雾其中一部分穿过分离隔层（71）和二级分离罩（72）从分离腔（12）顶部的除雾器（3）排出，另一部分小分子水雾在二级分离罩（72）底部聚集成水珠后下落，从二级导流口（712）流入一级分离室（122）后，最终流回雾化腔（11）。