[发明专利]晶粒检测样本自动生成方法和装置有效
申请号: | 202111143793.9 | 申请日: | 2021-09-28 |
公开(公告)号: | CN113570604B | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 刘荣华;熊柏泰 | 申请(专利权)人: | 武汉精创电子技术有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/80;G06T5/00;G06T3/40 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 李佑宏 |
地址: | 430205 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 晶粒 检测 样本 自动 生成 方法 装置 | ||
1.一种晶粒检测样本自动生成方法,其特征在于,包括:
获取多个相同类型晶粒的多张晶粒检测图像;
根据多张所述晶粒检测图像之间的重叠区域以及不同晶粒个体的所述晶粒检测图像的相同区域进行图像对位并获取多个所述晶粒的各个子区域对应的子区域图像;
选取不同所述晶粒个体之间的同一个所述子区域中出现次数最多的所述子区域图像作为该子区域对应的标准晶粒图像;
将每个所述子区域对应的所述标准晶粒图像进行拼接,得到完整的晶粒检测样本。
2.根据权利要求1所述的晶粒检测样本自动生成方法,其特征在于,在所述根据多张所述晶粒检测图像之间的重叠区域进行图像对位之前,还包括:选取对位依据点并获取其所在的所述晶粒检测图像作为基准图像,其它所述晶粒检测图像根据所述基准图像进行图像对位。
3.根据权利要求2所述的晶粒检测样本自动生成方法,其特征在于,所述选取对位依据点包括:响应于用户的鼠标点击、框选、拖拽或者输入坐标值操作,确定所述对位依据点。
4.根据权利要求1所述的晶粒检测样本自动生成方法,其特征在于,在所述获取多个相同类型晶粒的多张晶粒检测图像之后,还包括:对所述晶粒检测图像进行平场校正和畸变校正,所述平场矫正包括根据预先拟合的相机亮度参数修正所述晶粒检测图像的亮度,所述畸变校正包括根据预先标定的相机畸变参数修正所述晶粒检测图像的畸变。
5.根据权利要求4所述的晶粒检测样本自动生成方法,其特征在于,所述平场校正还包括:获取用户设置的亮度参数,所述亮度参数包括亮度值和亮度调整区域;根据所述亮度参数修正所述检测图像的目标区域的晶粒亮度。
6.一种晶粒检测样本自动生成装置,其特征在于,包括:
晶粒检测图像获取模块,用于获取多个相同类型晶粒的多张晶粒检测图像;
子区域图像获取模块,用于根据多张所述晶粒检测图像之间的重叠区域以及不同晶粒个体的所述晶粒检测图像的相同区域进行图像对位并获取多个所述晶粒的各个子区域对应的子区域图像;
标准晶粒图像选取模块,用于选取不同所述晶粒个体之间的同一个所述子区域中出现次数最多的所述子区域图像作为该子区域对应的标准晶粒图像;
标准晶粒图像拼接模块,用于将每个所述子区域对应的所述标准晶粒图像进行拼接,得到完整的晶粒检测样本。
7.根据权利要求6所述的晶粒检测样本自动生成装置,其特征在于,还包括:对位依据点选取模块,用于选取对位依据点并获取其所在的所述晶粒检测图像作为基准图像,其它所述晶粒检测图像根据所述基准图像进行图像对位。
8.根据权利要求6所述的晶粒检测样本自动生成装置,其特征在于,还包括:图像校正模块,用于对所述晶粒检测图像进行平场校正和畸变校正,所述平场矫正包括根据预先拟合的相机亮度参数修正所述晶粒检测图像的亮度,所述畸变校正包括根据预先标定的相机畸变参数修正所述晶粒检测图像的畸变。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉精创电子技术有限公司,未经武汉精创电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111143793.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。