[发明专利]晶圆承载台自动清洁监控系统、监控方法及可读存储介质在审
申请号: | 202111149897.0 | 申请日: | 2021-09-29 |
公开(公告)号: | CN113946613A | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 韩洋;黄俊;徐晓敏 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G06F16/25 | 分类号: | G06F16/25;G06F16/248;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭立 |
地址: | 201315 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 承载 自动 清洁 监控 系统 方法 可读 存储 介质 | ||
1.一种晶圆承载台自动清洁监控系统,其特征在于,包括:
晶圆曝光数据获取单元,数据共享单元,数据分析单元和执行单元;
所述晶圆曝光数据获取单元用以获取机台内底层曝光文件,对所述曝光文件进行解析,提取平坦度数据,并传输至所述数据共享单元;
所述数据共享单元,用以存储所述平坦度数据,并向所述数据分析单元提供数据共享接口;
所述数据分析单元,用以分析所述平坦度数据,将所述平坦度数据转换形成趋势图,判断所述趋势图中的数据是否超过预设阈值,如所述数据超过所述预设阈值,发送预警指令至所述执行单元;
所述执行单元,根据所述数据分析单元发送的预警指令向所述机台发送清洁晶圆承载台的控制指令。
2.如权利要求1所述的晶圆承载台自动清洁监控系统,其特征在于:
对所述曝光文件进行解析采用二阶拟合公式。
3.如权利要求2所述的晶圆承载台自动清洁监控系统,其特征在于:
所述平坦度数据根据晶圆吸附升降脚的坐标筛选所提取。
4.如权利要求1所述的晶圆承载台自动清洁监控系统,其特征在于:
所述数据分析单元提供的所述数据共享接口为打卡数据端口。
5.一种晶圆承载台自动清洁监控方法,其特征在于,包括:
步骤S1,获取晶圆曝光数据,提取平坦度数据;
步骤S2,存储和共享平坦度数据;
所述步骤S2中,通过提供数据共享接口,共享所述平坦度数据;
步骤S3,分析平坦度数据。
所述步骤S3中,将平坦度数据转换形成趋势图,并判断所述趋势图中的数据是否超过预设阈值,如所述数据超过所述预设阈值时,发送预警指令;
步骤S4,发送清洁晶圆承载台的控制指令。
所述步骤S4中,根据步骤S3发送的所述预警指令向机台发送清洁晶圆承载台的控制指令。
6.如权利要求5所述的晶圆承载台自动清洁监控方法,其特征在于:
所述步骤S1中,通过获取机台内底层曝光文件,采用一种二阶拟合的公式对所述曝光文件的曝光数据进行解析。
7.如权利要求6所述的晶圆承载台自动清洁监控方法,其特征在于:
所述平坦度数据根据晶圆吸附升降脚的坐标筛选所提取。
8.如权利要求5所述的晶圆承载台自动清洁监控方法,其特征在于:
所述数据共享接口为打卡数据端口。
9.如权利要求5所述的晶圆承载台自动清洁监控方法,其特征在于:
应用如权利要求1所述的晶圆承载台自动清洁监控系统。
10.一种计算机可读存储介质,其用于存储指令,其特征在于,所述指令在被执行时实现如权利要求5-9中任一项所述的晶圆承载台自动清洁监控方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司,未经上海华力集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111149897.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种五谷代餐粉包装设备
- 下一篇:一种基于铰链结构的间隙可控机械密封装置