[发明专利]滤光膜、滤光膜的制备方法、显示面板和显示装置在审
申请号: | 202111152958.9 | 申请日: | 2021-09-29 |
公开(公告)号: | CN113934045A | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 王宇超;余艳平;周婷;李俊谊 | 申请(专利权)人: | 厦门天马微电子有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 尹红敏 |
地址: | 361101 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤光 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种滤光膜,其特征在于,包括:
基板;
预处理层,设置于所述基板,所述预处理层的材料包括靶材;
黑矩阵层,设置于所述预处理层背离所述基板的一侧,所述黑矩阵层包括阵列分布的多个限定开口,至少部分所述预处理层由所述限定开口露出;
色阻层,包括两种以上不同颜色的色阻,所述色阻分别位于所述限定开口,至少一种所述色阻的材料包括能够与所述靶材发生化学键合反应的反应材料。
2.根据权利要求1所述的滤光膜,其特征在于,所述预处理层包括阵列分布的多个预处理块,至少部分所述预处理块由所述限定开口露出;
或者,所述预处理层为整层设置。
3.根据权利要求1所述的滤光膜,其特征在于,
所述靶材包括第一靶材、第二靶材和第三靶材;
多个所述限定开口包括第一开口、第二开口和第三开口,包括所述第一靶材的所述预处理层由所述第一开口露出,包括所述第二靶材的所述预处理层由所述第二开口露出,包括所述第三靶材的所述预处理层由所述第三开口露出;
多个所述色阻包括颜色不同的第一色阻、第二色阻和第三色阻,各所述第一色阻位于各所述第一开口,各所述第二色阻位于各所述第二开口,各所述第三色阻位于各所述第三开口;
所述第一色阻的所述反应材料包括能够与所述第一靶材发生化学键合反应的第一反应材料,以使所述第一靶材分子和所述第一反应材料分子键合,所述第二色阻的所述反应材料包括能够与所述第二靶材发生化学键合反应的第二反应材料,以使所述第二靶材分子和所述第二反应材料分子键合,所述第三色阻的所述反应材料包括能够与所述第三靶材发生化学键合反应的第三反应材料,以使所述第三靶材分子和所述第三反应材料分子键合。
4.根据权利要求3所述的滤光膜,其特征在于,
所述第一色阻由第一颜色材料和所述第一反应材料混合;
所述第二色阻由第二颜色材料和所述第二反应材料混合;
所述第三色阻由第三颜色材料和所述第三反应材料混合。
5.根据权利要求3所述的滤光膜,其特征在于,
所述第一靶材、所述第二靶材和所述第三靶材中至少两者的材料相同;
和/或,所述第一反应材料、所述第二反应材料和第三反应材料中至少两者的材料相同。
6.根据权利要求1所述的滤光膜,其特征在于,
所述靶材包括硅烷偶联剂,所述反应材料包括能够与所述硅烷偶联剂发生偶联反应的树脂材料。
7.根据权利要求6所述的滤光膜,其特征在于,所述基板为柔性基板。
8.一种滤光膜的制备方法,其特征在于,包括:
在基板上形成预处理层,所述预处理层的材料包括第一靶材;
在所述预处理层上形成黑矩阵材料层,对所述黑矩阵材料层进行图案化处理形成黑矩阵层,所述黑矩阵层包括第一开口,至少部分所述预处理层由所述第一开口露出;
在所述第一开口内形成第一色阻,所述第一色阻包括能够与所述第一靶材发生化学键合反应的第一反应材料。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在所述第一开口内形成第一色阻,所述第一色阻包括能够与所述第一靶材发生化学键合反应的第一反应材料的步骤中:
将带有所述预处理层和所述黑矩阵层的基板浸润于包含第一色阻材料的液体内,所述第一色阻材料包括所述第一反应材料,以使所述第一色阻材料沉积于所述第一开口内的所述预处理层上。
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