[发明专利]滤光膜、滤光膜的制备方法、显示面板和显示装置

说明书

本申请实施例提供一种滤光膜、滤光膜的制备方法、显示面板和显示装置，滤光膜包括：基板；预处理层，设置于基板，预处理层的材料包括靶材；黑矩阵层，设置于预处理层背离基板的一侧，黑矩阵层包括阵列分布的多个限定开口，至少部分预处理层由限定开口露出；色阻层，包括两种以上不同颜色的色阻，色阻分别位于限定开口，至少一种色阻的材料包括能够与靶材发生化学键合反应的反应材料。本申请能够解决色阻材料被大量浪费的问题。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种滤光膜、滤光膜的制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身轻薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。如：液晶电视、移动电话、计算机屏幕和笔记本屏幕等。

通常，LCD显示装置需要通过滤光膜来实现彩色显示。滤光膜包括黑色矩阵(BlackMatrix，BM)和设置在BM层的色阻。在传统的滤光膜制备方法中，通常是将色阻整层设置于BM上以后再对色阻进行图案化处理，该方法导致大量的色阻材料被显影而浪费掉。

发明内容

本申请实施例提供一种滤光膜、滤光膜的制备方法、显示面板和显示装置，旨在解决滤光膜制备过程中导致的色阻材料被大量浪费的问题。

本申请第一方面的实施例提供了一种滤光膜，滤光膜包括：基板；预处理层，设置于基板，预处理层的材料包括靶材；黑矩阵层，设置于预处理层背离基板的一侧，黑矩阵层包括阵列分布的多个限定开口，至少部分预处理层由限定开口露出；色阻层，包括两种以上不同颜色的色阻，色阻分别位于限定开口，至少一种色阻的材料包括能够与靶材发生化学键合反应的反应材料。

本申请第二方面的实施例还提供了一种滤光膜的制备方法，滤光膜的制备方法包括：

在基板上形成预处理层，预处理层的材料包括第一靶材；

在预处理层上形成黑矩阵材料层，对黑矩阵材料层进行图案化处理形成黑矩阵层，黑矩阵层包括第一开口，至少部分预处理层由第一开口露出；

在第一开口内形成第一色阻，第一色阻包括能够与第一靶材发生化学键合反应的第一反应材料。

本发明第三方面的实施例提供一种显示面板，包括上述任一第一方面实施例提供的滤光膜。

本发明第四方面的实施例提供一种显示装置，包括上述第三方面实施例提供的显示面板。

在本申请实施例提供的滤光膜中，滤光膜包括基板和依次设置于基板的预处理层、黑矩阵层和色阻层，其中黑矩阵包括阵列分布的限定开口，不同颜色的色阻层可以设置于限定开口内，实现滤光膜的滤光效果。此外，预处理层由限定开口露出，色阻层在限定开口内与预处理层相互接触。而预处理层包括靶材，色阻层包括能够与靶材发生化学键合反应的反应材料，反应材料能够与靶材分子键合。在滤光膜的制备过程中，色阻层通过反应材料和靶材键合形成于限定开口内，无需将色阻整层设置于整个黑矩阵层上以后再对色阻进行图案化处理，不会导致大量的色阻材料被显影而浪费掉。因此本申请实施例的滤光膜通过增设预处理层，且在色阻层的材料中加入能够与预处理层的靶材发生化学键合反应的反应材料，能够解决色阻材料被大量浪费的问题。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征。

图1是相关技术中滤光膜的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的一种滤光膜的俯视结构示意图；

图3是图2中A-A处的剖视图；

图4是另一实施例中图2中A-A处的剖视图；

图5是本申请实施例提供的滤光膜的制备方法流程示意图；