[发明专利]印刷电路板化学镀银方法在审
申请号: | 202111157547.9 | 申请日: | 2021-09-29 |
公开(公告)号: | CN113766760A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 邱美琴;吴旭明;蔡良胜;曾剑珍;田雪峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市虹喜科技发展有限公司 |
主分类号: | H05K3/24 | 分类号: | H05K3/24;H05K3/26 |
代理公司: | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 | 代理人: | 巩莉 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区龙岗街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷 电路板 化学 镀银 方法 | ||
1.一种印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,包括以下步骤:
S10,对印刷电路板的铜层表面进行除油处理,清水洗净;
S20,对经步骤S10处理后的铜层表面进行微蚀,清水洗净;
S30,将经步骤S20处理后的印刷电路板先在25~35℃下于预浸液中进行预浸后,再浸入化学镀银液中,于45~55℃下进行沉银处理,清水洗净;
其中,所述化学镀银液包括以下浓度的组分:0.2~5.0g/L的银离子、1.0~100g/L的络合剂、0.1~10g/L的铜离子、0.01~100g/L的表面活性剂以及0.01~10g/L的铜防氧化剂。
2.如权利要求1所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述银离子由银离子来源物提供,所述银离子来源物包括银单质、硝酸银、甲基磺酸银以及醋酸银中的一种或多种;和/或,
所述铜离子由铜离子来源物提供,所述铜离子来源物包括铜单质、硝酸铜、甲基磺酸铜以及醋酸铜中的一种或多种;和/或,
所述络合剂包括含EDTA官能团的络合剂、氨基三乙酸、氨基三乙酸盐以及三乙醇胺中的一种或多种;和/或,
所述表面活性剂包括不含硫、磷以及卤族元素的低泡非离子型表面活性剂;和/或,
所述铜防氧化剂包括苯并咪唑、甲基苯并咪唑、巯基苯骈噻唑钠盐以及氢键被取代的咪唑中的一种或多种。
3.如权利要求2所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述表面活性剂包括异构十碳醇的聚氧乙烯醚、脂肪酸甲脂以及嵌段聚醚中的至少一种。
4.如权利要求1所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,步骤S10中,采用碱性除油剂进行除油处理,所述碱性除油剂的pH为11~13。
5.如权利要求4所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述碱性除油剂包括有机碱和/或无机碱;和/或,
所述除油处理的温度为0~50℃,处理时间为0.1~10min。
6.如权利要求5所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述碱性除油剂包括有机碱,所述有机碱包括一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺以及有机氢氧化胺中的一种或多种,且所述碱性除油剂中所述有机碱的浓度为0.01~10mol/L;和/或,
所述碱性除油剂包括无机碱,所述无机碱包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾和碳酸钠中的一种或多种,且所述碱性除油剂中所述无机碱的浓度为0.01~10mol/L;和/或,
所述碱性除油剂还包括咪唑衍生物,且所述碱性除油剂中所述咪唑衍生物的浓度为0.01~100g/L;和/或,
所述碱性除油剂还包括表面活性剂,且所述碱性除油剂中所述表面活性剂的浓度为0.01~100g/L。
7.如权利要求5所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述表面活性剂包括烷基磺酸钠类表面活性剂、NP类表面活性剂和OP类表面活性剂中的一种或多种。
8.如权利要求1所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,步骤S20中,采用微蚀剂进行微蚀,以使所述铜层表面的粗糙度小于0.2μm。
9.如权利要求8所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述微蚀剂包括主要成分、缓蚀剂以及整平剂,所述主要成分包括双氧水、无机酸和有机酸中的至少一种,所述整平剂的浓度为0.01~100g/L,所述缓蚀剂的浓度为0.01~100g/L;和/或,
所述微蚀的温度为0~40℃,处理时间为0.1~10min。
10.如权利要求9所述的印刷电路板化学镀银方法,其特征在于,所述主要成分包括双氧水,所述微蚀剂中所述双氧水的浓度为0.2~2mol/L;和/或,
所述主要成分包括所述无机酸,所述微蚀剂中所述无机酸的浓度不大于10mol/L,且所述无机酸包括硫酸、磷酸、氨基磺酸、硝酸和盐酸中的一种或多种;和/或,
所述主要成分包括所述有机酸,所述微蚀剂中所述有机酸的浓度不大于10mol/L,且所述有机酸包括甲基磺酸、甲酸和乙酸中的一种或多种;和/或,
所述缓蚀剂包括乌洛托品、谷氨酸钠和甘氨酸钠中的一种或多种;和/或,
所述整平剂包括烷基二醇类。
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