[发明专利]印刷电路板化学镀银方法在审
申请号: | 202111157547.9 | 申请日: | 2021-09-29 |
公开(公告)号: | CN113766760A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 邱美琴;吴旭明;蔡良胜;曾剑珍;田雪峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市虹喜科技发展有限公司 |
主分类号: | H05K3/24 | 分类号: | H05K3/24;H05K3/26 |
代理公司: | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 | 代理人: | 巩莉 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区龙岗街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷 电路板 化学 镀银 方法 | ||
本发明公开一种印刷电路板化学镀银方法,包括以下步骤:S10,对印刷电路板的铜层表面进行除油处理,清水洗净;S20,对经步骤S10处理后的铜层表面进行微蚀,清水洗净;S30,将经步骤S20处理后的印刷电路板先在25‑35℃下于预浸液中进行预浸后,再浸入化学镀银液中,于45‑55℃下进行沉银处理,清水洗净;其中,所述化学镀银液包括以下浓度的组分:0.2~5.0g/L银离子、1.0~100g/L络合剂、0.1~10g/L铜离子、0.01~100g/L表面活性剂以及0.01~10g/L铜防氧化剂。本发明通过添加表面活性剂,有效促进了溶液的交换,缓解了银下铜层空洞现象,能够控制银沉积效率;使用特定配方的化学镀银液在45~55℃下进行沉银处理,使得沉积速率控制在0.10~0.15μm/min,避免了因置换反应速率过快而形成过多的银下铜层空洞。
技术领域
本发明涉及印刷电路板制备技术领域,具体涉及一种印刷电路板化学镀银方法。
背景技术
印刷电路板(PCB)制造工艺中,通过在铜表面镀银以改善铜表面的导电性和可焊性。银镀层由化学镀银液在铜表面沉积形成。酸性化学银工艺由于其上镀速度快、槽液稳定、所获得银层纯度高、厚度均匀、具有优异导电性和性号传导性等优点,被广泛用于PCB表面涂覆,特别是通讯类PCB的制作中。
在使用的过程中,业界发现一些正常流程生产的化学银PCB板在装配时易出现焊锡失效现象,经分析检查,系化学镀银时银下铜层细小空洞造成。银下铜层空洞过多,会导致后续焊点中微空洞过于密集,最终导致焊点出现振动失效、温变疲劳失效等可靠性问题。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种印刷电路板化学镀银方法,旨在解决传统酸性化学银工艺存在的银下铜层空洞多的问题。
为实现上述目的,本发明提出一种印刷电路板化学镀银方法,所述印刷电路板化学镀银方法包括以下步骤:
S10,对印刷电路板的铜层表面进行除油处理,清水洗净;
S20,对经步骤S10处理后的铜层表面进行微蚀,清水洗净;
S30,将经步骤S20处理后的印刷电路板先在25~35℃下于预浸液中进行预浸后,再浸入化学镀银液中,于45~55℃下进行沉银处理,清水洗净;
其中,所述化学镀银液包括以下浓度的组分:0.2~5.0g/L的银离子、1.0~100g/L的络合剂、0.1~10g/L的铜离子、0.01~100g/L的表面活性剂以及0.01~10g/L的铜防氧化剂。
可选地,所述银离子由银离子来源物提供,所述银离子来源物包括银单质、硝酸银、甲基磺酸银以及醋酸银中的一种或多种;和/或,
所述铜离子由铜离子来源物提供,所述铜离子来源物包括铜单质、硝酸铜、甲基磺酸铜以及醋酸铜中的一种或多种;和/或,
所述络合剂包括含EDTA官能团的络合剂、氨基三乙酸、氨基三乙酸盐以及三乙醇胺中的一种或多种;和/或,
所述表面活性剂包括不含硫、磷以及卤族元素的低泡非离子型表面活性剂;和/或,
所述铜防氧化剂包括苯并咪唑、甲基苯并咪唑、巯基苯骈噻唑钠盐以及氢键被取代的咪唑中的一种或多种。
可选地,所述表面活性剂包括异构十碳醇的聚氧乙烯醚、脂肪酸甲脂以及嵌段聚醚中的至少一种。
可选地,步骤S10中,采用碱性除油剂进行除油处理,所述碱性除油剂的pH为11~13。
可选地,所述碱性除油剂包括有机碱和/或无机碱;和/或,
所述除油处理的温度为0~50℃,处理时间为0.1~10min。
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