[发明专利]一种半导体晶圆干燥用打磨膏输送装置有效
申请号: | 202111168494.0 | 申请日: | 2021-10-08 |
公开(公告)号: | CN113601397B | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 高定桃 | 申请(专利权)人: | 常州市名流干燥设备有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B01F33/83;B01F27/90;B02C18/10;B02C18/18 |
代理公司: | 常州市韬略专利代理事务所(普通合伙) 32565 | 代理人: | 何聪 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 干燥 打磨 输送 装置 | ||
本发明涉及打磨技术领域,尤其涉及一种半导体晶圆干燥用打磨膏输送装置,包括,储存部,所述储存部的腔体适于通入打磨膏;打磨部,所述打磨部具有打磨腔,所述打磨腔位于所述储存部底部,且与所述储存部连通;启闭部,所述启闭部位于所述储存部内,以控制所述打磨部和所述储存部的通断,所述启闭部包括搅拌部、滑动设置在所述搅拌部上的挤压部、固定在所述搅拌部上的破碎部以及驱动所述搅拌部、挤压部运动的驱动部,所述驱动部驱动所述搅拌部转动,以使所述储存部内的打磨膏混合均匀。
技术领域
本发明涉及打磨技术领域,尤其涉及一种半导体晶圆干燥用打磨膏输送装置。
背景技术
传统技术中,打磨抛光一般采用磨砂轮对工件进行打磨或抛光,但这种方式得到的打磨、抛光的品质难以保证,特别是对于一些细小、形状复杂或形状不规则的工件;后来,出现了流体打磨的方法,采用工件在流体打磨膏中不断运动,以不断与流体打磨膏摩擦的方法实现对工件表面的打磨或抛光;
上述的现有技术中,虽然能够使得工件得到较高的打磨或抛光质量,但是,其仍存在一些不足,例如:打磨膏由打磨液和打磨颗粒混合合成,打磨颗粒会大小不均匀,打磨液和打磨颗粒混合不均匀等影响打磨精度。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:为了克服上述技术中的技术问题,本发明提供了一种半导体晶圆干燥用打磨膏输送装置,包括,
储存部,所述储存部的腔体适于通入打磨膏;
打磨部,所述打磨部具有打磨腔,所述打磨腔位于所述储存部底部,且与所述储存部连通;
启闭部,所述启闭部位于所述储存部内,以控制所述打磨部和所述储存部的通断,所述启闭部包括搅拌部、滑动设置在所述搅拌部上的挤压部、固定在所述搅拌部上的破碎部以及驱动所述搅拌部、挤压部运动的驱动部,所述驱动部驱动所述搅拌部转动,以使所述储存部内的打磨膏混合均匀;其中,
当所述驱动部驱动所述挤压部滑动脱离所述搅拌部时,所述打磨部和所述储存部连通;当所述驱动部驱动所述挤压部在所述搅拌部上滑动时,所述打磨部和所述储存部断开;
当所述驱动部驱动所述挤压部在所述搅拌部上滑动,且贴紧所述破碎部时,所述搅拌部、破碎部、挤压部和所述储存部内壁形成破碎腔体,所述驱动部驱动所述搅拌部、挤压部和破碎部转动,以对所述破碎腔体内的打磨颗粒进行研磨。
进一步地,所述搅拌部包括设置在所述储存部内的搅拌叶,其中,
所述搅拌叶的数量为四个,且镜像设置在所述储存部内。
进一步地,所述挤压部包括压盘,其中,
所述压盘上开设有与所述搅拌叶适配的滑槽;
所述压盘的尺寸与所述储存部内壁尺寸一致。
进一步地,所述破碎部包括固定环和设置在所述固定环外壁上的破碎齿,其中,
所述固定环的底部固定在所述搅拌叶的上端。
进一步地,所述驱动部包括提升气缸、轴承、直推气缸和旋转气缸,其中,
所述提升气缸固定在所述轴承的内圈上,所述提升气缸的活塞与所述压盘固定连接;
所述直推气缸固定在所述储存部上,所述直推气缸的活塞与所述轴承外圈固定连接;
所述旋转气缸的活塞与所述直推气缸传动连接,所述旋转气缸固定在所述储存部上。
进一步地,所述压盘的侧壁上固定有定位块,所述储存部的侧壁上开设有竖槽和环槽,其中,
所述竖槽和环槽连通,所述定位块的尺寸与所述竖槽和环槽尺寸适配。
进一步地,所述搅拌叶通过连接板固定在所述轴承外圈上。
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