[发明专利]一种硅片清洗污水的处理方法有效
申请号: | 202111168743.6 | 申请日: | 2021-10-08 |
公开(公告)号: | CN113620546B | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 苏有旗;应魁炳;周婷春 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14 |
代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 清洗 污水 处理 方法 | ||
1.一种硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
向硅片清洗污水中加入酸液,调节所述硅片清洗污水的pH值至4~6;
向硅片清洗污水中加入硅片切割污水,调节所述硅片清洗污水的悬浮物浓度至1000~3000mg/L;
对pH值与悬浮物浓度调节后的硅片清洗污水进行压滤,收集压滤所得的固相;
向压滤所得的滤液中加入碱液,调节所述滤液的pH值至7~8;
对pH值调节后的滤液进行生化处理。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,在向硅片清洗污水中加入酸液的步骤中,所述酸液选自盐酸或硫酸。
3.根据权利要求1所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,
所述硅片清洗污水包含硅粉、杂质和水;所述杂质包含二氧化硅、硅酸钠胶体、塑料残渣、环氧树脂与胺类固化剂形成的聚合物中的至少一种;
所述向硅片清洗污水中加入的硅片切割污水包含硅粉、表面活性剂和水;所述硅片切割污水的pH值为4~7。
4.根据权利要求1所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,在所述压滤步骤前,向所述pH值与悬浮物浓度调节后的硅片清洗污水中加入纤维素助滤剂。
5.根据权利要求4所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,当所述滤液的浊度高于100NTU或当单台压滤机的压滤效率低于12立方米/小时,向所述pH值与悬浮物浓度调节后的硅片清洗污水中加入纤维素助滤剂。
6.根据权利要求1所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,所述压滤步骤中使用的滤布为高强度涤纶材料。
7.根据权利要求1所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,所述压滤步骤中使用的滤布的透气率为4~6L/m2·s。
8.根据权利要求1所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,在向压滤所得的滤液中加入碱液的步骤中,所述碱液选自氢氧化钠或氢氧化钾。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的硅片清洗污水的处理方法,其特征在于,所述生化处理包括如下步骤:
水解酸化及厌氧处理:将所述滤液中的高分子有机物分解为小分子有机物;
好氧处理:利用好氧微生物将所述滤液中的小分子有机物分解为无机物;
曝气处理:对所述滤液进行曝气处理,去除所述滤液中的悬浮物、化学需氧量、生化需氧量、氮和磷中的至少一种。
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