[发明专利]一种硅片清洗污水的处理方法有效

专利信息
申请号: 202111168743.6 申请日: 2021-10-08
公开(公告)号: CN113620546B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 苏有旗;应魁炳;周婷春 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 314416 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 污水 处理 方法
【说明书】:

本申请涉及一种硅片清洗污水的处理方法,包括如下步骤:向硅片清洗污水中加入酸液,调节所述硅片清洗污水的pH值至4~6;向硅片清洗污水中加入硅片切割污水,调节所述硅片清洗污水的悬浮物浓度;对pH值与悬浮物浓度调节后的硅片清洗污水进行压滤,收集压滤所得的固相;向压滤所得的滤液中加入碱液,调节所述滤液的pH值至7~8;对pH值调节后的滤液进行生化处理。本申请所提供的方法不但安全高效地实现了对硅片清洗污水、硅片切割污水中的硅粉的回收,增加了效益;还使得经处理后的污水的悬浮物浓度显著降低,提高了生化处理的效率,消除可对环境造成二次污染的污泥的产生。

技术领域

本申请涉及污水处理技术领域,具体地讲,涉及一种硅片清洗污水的处理方法。

背景技术

光伏行业中,在硅片生产加工过程中,对切割完的硅片要经过多级清洗,去除附着在硅片表面的砂浆、油污、灰尘等附着物,以满足后道工序的加工工艺要求,由此产生了硅片清洗污水。目前,对于硅片清洗污水并没有很好的处理方法。

发明内容

鉴于背景技术中存在的问题,本申请提供一种硅片清洗污水的处理方法。

本申请提供的硅片清洗污水的处理方法,包括如下步骤:向硅片清洗污水中加入酸液,调节所述硅片清洗污水的pH值至4~6;向硅片清洗污水中加入硅片切割污水,调节所述硅片清洗污水的悬浮物浓度;对pH值与悬浮物浓度调节后的硅片清洗污水进行压滤,收集压滤所得的固相;向压滤所得的滤液中加入碱液,调节所述滤液的pH值至7~8;对pH值调节后的滤液进行生化处理。

相对于现有技术而言,本申请在将硅片清洗污水排入环保污水处理系统进行生化处理之前,增加了包括pH值调节、悬浮物浓度调节以及压滤在内的一系列处理步骤。在本申请的实施方式中,利用酸液将硅片清洗污水的pH值(约为9~12左右)调节至4~6。一方面,硅片清洗污水中所含有的硅酸钠水玻璃粘度较大,容易在压滤过程中对滤布造成堵塞;另一方面,硅片清洗污水中悬浮物的分散性较大,较难形成滤饼层,也增加了压滤的难度;此外,在压滤过程中,当污水的pH值大于6时,由于污水中所含的硅粉具有较大的比表面积,容易与OH-发生剧烈的放热化学反应,可能造成自燃,引发安全隐患。调节后的pH值环境可降低污水中的硅酸钠水玻璃的粘度,防止其在压滤过程中堵塞滤布;同时也有助于降低污水中悬浮物的分散性,提升压滤效率;也能避免安全隐患。此外,在本申请的实施方式中,还向硅片清洗污水中加入硅片切割污水,从而增加了污水中的悬浮物浓度,使得悬浮物在压滤过程中更易形成滤饼,提高压滤效率,也同时实现了对硅片切割污水中经济物质硅粉的回收。

因此,在本申请的实施方式中,不但安全高效地实现了对硅片清洗污水、硅片切割污水中的经济物质硅粉的回收,增加了效益;还使得经处理后的污水中的悬浮物浓度显著降低,提高了后续进行生化处理的效率,基本消除了可对环境产生二次污染的污泥的产生。

具体实施方式

下面将对本申请技术方案的实施方式进行详细的描述。以下实施方式仅用于更加清楚地说明本申请的技术方案,因此只作为示例,而不能以此来限制本申请的保护范围。除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。在本文中提及“实施方式”意味着,结合实施方式描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施方式中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施方式,也不是与其它实施方式互斥的独立的或备选的实施方式。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施方式可以与其它实施方式相结合。

在本申请的部分实施方式中,提供了一种硅片清洗污水的处理方法,包括如下步骤:向硅片清洗污水中加入酸液,调节所述硅片清洗污水的pH值至4~6;向硅片清洗污水中加入硅片切割污水,调节所述硅片清洗污水的悬浮物浓度;对pH值与悬浮物浓度调节后的硅片清洗污水进行压滤,收集压滤所得的固相;向压滤所得的滤液中加入碱液,调节所述滤液的pH值至7~8;对pH值调节后的滤液进行生化处理。

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