[发明专利]微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法

权利要求书

1.一种微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：配制前驱体：按4YSZ的比例称取锆源和钇源，向锆源和钇源中加入表面活性剂在加热的条件下进行反应，得前驱体；

步骤二：在加热、搅拌条件下，对上述前驱体进行抽真空处理，待溶液中的结晶水形成气液饱和稳定状态停止抽真空，并保持气液饱和稳定状态；

步骤三：将气液饱和稳定状态的混合体导入微波脱除有机物形成钇锆均匀混合无定形固态物；

步骤四：对上述无定形固态物进行脱除残余有机物处理，生成4YSZ粉体。

2.根据权利要求1所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，步骤一中，所述锆源为氧氯化锆、醋酸锆或硝酸锆；所述钇源为三氧化二钇、碳酸钇或氯化钇；所述表面活性剂为小分子的醇、醛，羧酸，柠檬酸，油酸或TMC的至少一种。

3.根据权利要求2所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，所述小分子的醇、醛为含碳原子数≤3的醇、醛。

4.根据权利要求1所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，步骤一中，所述加热的温度为60-120℃。

5.根据权利要求1所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，步骤二中，所述加热的温度为60-120℃，在保持气液饱和稳定状态100-120min后，再导入微波处理。

6.根据权利要求1所述所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，步骤三中，微波的工作温度为80-200℃，在此条件下工作的时间为3-5min。

7.根据权利要求1所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，步骤四中，所述脱除的方法为：采用推板窑煅烧无定形固态物。

8.根据权利要求7所述微波合成4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体的方法，其特征在于，所述煅烧的方法为在煅烧温度为1000℃的条件下，煅烧24h。

9.权利要求1-8所述4YSZ纳米氧化锆热障涂层粉体在APS、EBPVD、PSPVD制备高性能热障涂层中的应用。