[发明专利]一种含硅烷尾气的安全排放装置

说明书

本发明提供一种含硅烷尾气的安全排放装置，包括排放主管，排放主管下端连接有排放支管，排放支管下端对应设置有吸收槽，吸收槽内注有吸收液，所述排放支管采用树状结构多级分布设置，排放支管最下端伸入到吸收槽内并置于吸收液液面下侧，排放支管最下端表面设有若干个排放孔。过采用排放支管将尾气分流排放，使尾气分散流动，尾气沿排放支管进入到吸收槽内并与吸收液接触，从而快速反应处理，结构简单，使用便捷。

技术领域

本发明涉及硅烷气体反应设备技术领域，尤其涉及一种含硅烷尾气的安全排放装置。

背景技术

硅烷已成为半导体微电子工艺中使用的最主要的特种气体, 用于各种微电子薄膜制备, 包括单晶膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化硅、金属硅化物等。硅烷的微电子应用还在向纵深发展: 低温外延、选择外延、异质外延。不仅用于硅器件和硅集成电路，也用于化合物半导体器件(砷化镓、碳化硅等)。在超晶格量子阱材料制备中也有应用。可以说现代几乎所有先进的集成电路的生产线都需用到硅烷。硅烷在空气中含量大于0 .1%就会自燃，产生大量烟尘，如直接排放不但会污染环境、而且操作不慎，可能引燃可燃物，造成严重的安全事故。

专利号CN213375925U公开了一种乙硅烷分析后处理装置，通过将尾气通入到尾气处理箱内，尾气处理箱上端设有水喷淋头进行喷淋，尾气处理箱下端通过固废排出管与废液槽连接，尾气在尾气处理箱中通过喷淋进行处理，从而完成尾气的处理，但是该装置都是将尾气集中处理，不能有效的保证尾气中的硅烷与喷淋液充分接触反应完全，处理效率底下，因此解决这个问题就变得很重要了。

发明内容

本发明的目的是提供一种含硅烷尾气的安全排放装置，通过采用排放支管将尾气分流排放，使尾气分散流动，尾气沿排放支管进入到吸收槽内并与吸收液接触，从而快速反应处理，解决了背景技术中尾气集中反应处理效率底下的问题。

本发明提供一种含硅烷尾气的安全排放装置，包括排放主管，排放主管下端连接有排放支管，排放支管下端对应设置有吸收槽，吸收槽内注有吸收液，所述排放支管采用树状结构多级分布设置，排放支管最下端伸入到吸收槽内并置于吸收液液面下侧，排放支管最下端表面设有若干个排放孔。

进一步改进在于：排放主管上设有流量控制球阀，排放支管上设有开关阀。

进一步改进在于：排放主管与排放支管连接处设有过滤器。

进一步改进在于：所述吸收液采用氨水吸收液或稀硝酸吸收液。

进一步改进在于：吸收槽内中间设有搅拌杆，搅拌杆上端插入到排放支管内。

进一步改进在于：吸收槽内底部设有滤网，吸收槽侧边连接有排液管。

本发明的有益效果：通过设置排放主管和排放分管，排放分管多级设置，尾气通过排风分管进行多级分流排放，使每级的尾气排放量降低到比较小的流量，较小量的尾气通过排放分管通入到吸收槽内，可以快速与吸收液快速充分接触，从而提高对尾气的吸收处理，提高尾气处理效率。

排放支管下端表面排放孔，通过排放孔增加尾气的排出面积，增大尾气与吸收液的接触面积，从而使尾气和吸收液快速接触，从而提高吸收液额吸收效率。

通过设置搅拌杆，搅拌杆伸入排液支管内，对排液支管内的吸收液进行搅动，提高吸收液与尾气的接触吸收效率。

通过设置流量控制球阀控制排气主管内的总排气量，使排气速率保持稳定；通过开关阀对排气支管进行关闭和打开，从而控制尾气排出的流量，便于控制对尾气的吸收处理效果和处理速率。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是吸收槽结构示意图。

图3是排放支管端部示意图。