[发明专利]一类羟肟酸衍生物及其应用

权利要求书

1.式I所示的化合物、或其盐、或其立体异构体、或其溶剂合物、或其水合物、或其前药：

其中，

X₁选自无、O、S、NR₂或CR₃R₄；

X₂选自无、O、S、NR₂或CR₃R₄；

Z₁选自无、O、S、NR₂或CR₃R₄；

Z₂选自无、O、S、NR₂或CR₃R₄；

Y₁、Y₂分别独立选自N、CR₅；

R₂、R₃、R₄、R₅分别独立选自氢、C₁～C₈烷基；

A环选自6～10元芳基、5～10元杂芳基；

R₁为A环上的取代基，分别独立选自取代或未取代的C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基、卤素、取代或未取代的3～10元环烷基、取代或未取代的3～10元饱和杂环基、取代或未取代的3～10元不饱和杂环基；

所述烷基的取代基选自取代或未取代的5～10元杂芳基；

所述环烷基、杂环基的取代基选自C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基、卤素、羟基、氨基、羧基、硝基、氰基；或者同一个碳原子上的两个取代基形成双键连接O；

所述杂芳基的取代基选自C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基、卤素、羟基、氨基、羧基、硝基、氰基；或者同一个碳原子上的两个取代基形成双键连接O；

n表示A环上取代基R₁的个数，选自0～5的整数，当n为0时表示A环上没有取代基。