[发明专利]一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法有效
申请号: | 202111184527.0 | 申请日: | 2021-10-12 |
公开(公告)号: | CN113622013B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 朱恺华;赵正东;焦旭东;王百强;赵明杰 | 申请(专利权)人: | 南通伟腾半导体科技有限公司 |
主分类号: | C25D15/00 | 分类号: | C25D15/00;C25D7/04;C25D5/02;C25D21/10;C25D17/06 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 何思理 |
地址: | 226500 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 切割 刀片 复合 沉积 制备 方法 | ||
1.一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤:
S1、将若干环形刀片(1)作为沉积基体从上到下等距安装在沉积工装(2)上,所述环形刀片(1)被划分为沉积面(11)和非沉积面(12);
S2、将两个镍质阳极(3)通过隔板(31)分隔在电镀槽(4)的两侧,两个所述隔板(31)之间填充有电镀液,所述沉积工装(2)可转动的设置在所述电镀液中,其中,向所述电镀液中加入金刚石颗粒,所述非沉积面(12)采用挡板(5)遮住并作为阴极的电路接口;
S3、在电镀过程中,控制电镀液PH、电流密度、转动频率,使得金刚石颗粒均匀生长在所述沉积面(11)上;
在所述步骤S2中,所述沉积工装(2)在转动过程中同步对所述电镀液进行漩涡式搅拌。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法,其特征在于:所述沉积工装(2)包括转动设置在旋转电机(101)上的转杆(21)以及设置在所述转杆(21)底部的底盘(22),所述转杆(21)的顶部可拆卸的连接在所述旋转电机(101)上,所述转杆(21)从上到下间隔分布有若干螺纹面(211)、光滑面(212),所述环形刀片(1)安装在所述光滑面(212)上,所述挡板(5)螺纹连接在所述螺纹面(211)上且用于夹紧固定所述环形刀片(1)。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法,其特征在于:所述底盘(22)的外侧套装有叶轮盘(6),所述叶轮盘(6)从外到内依次被划分为外盘(61)和内盘(62),所述内盘(62)上分布有若干延伸方向朝上的扰流叶片(621),所述外盘(61)的底部分布有若干延伸方向朝下的搅拌叶片(611),所述扰流叶片(621)和所述搅拌叶片(611)的延伸方向相互平行。
4.根据权利要求3所述的一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法,其特征在于:所述扰流叶片(621)为折弯的弧形面,所述扰流叶片(621)的其中一个弧形面焊接固定在所述内盘(62)上,所述扰流叶片(621)另一个弧形面的延伸方向朝向所述转杆(21)。
5.根据权利要求3所述的一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法,其特征在于:所述搅拌叶片(611)可自由转动的设置在所述外盘(61)的底部,所述搅拌叶片(611)为倾斜方向远离所述转杆(21)的螺旋体。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆切割刀片复合沉积层的制备方法,其特征在于:在所述步骤S3中,所述电镀液的PH范围是3.5-4.5,所述电流密度为1.5-3.5A/dm2,所述转动频率为20Hz-30Hz。
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