[发明专利]功率半导体封装体和用于制造功率半导体封装体的方法在审
申请号: | 202111191664.7 | 申请日: | 2021-10-13 |
公开(公告)号: | CN114420575A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | J·纳拉亚纳萨米;S·阿布德哈米德;庄铭浩;M·R·戈多伊;蓝志民;A·R·穆罕默德;S·K·穆鲁甘;T·施特克 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/56;H01L23/31;H01L23/495;B23K26/38 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周家新 |
地址: | 德国瑙伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 功率 半导体 封装 用于 制造 方法 | ||
1.一种用于制造功率半导体封装体的方法,所述方法包括:
提供包括裸片焊盘和框架的引线框架,其中,裸片焊盘通过至少一个系杆连接到框架,
将半导体裸片附接到裸片焊盘,
通过激光切割而切穿至少一个系杆,从而形成切割表面,以及
在激光切割之后,在裸片焊盘和半导体裸片之上模制,其中,切割表面被模制化合物完全覆盖。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法还包括:
将模制锁定特征激光切割到裸片焊盘中,其中,模制锁定特征包括通孔或腔,以及
用模制化合物填充模制锁定特征。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述激光切割包括在两个不同位置处进行激光切割而切穿所述至少一个系杆,使得一段系杆被完全切割掉。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述方法还包括:
使用空气流、气流或负压,以便从引线框架上移除所述一段系杆。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述方法还包括:
在激光切割之后,用激光从切割表面去除毛刺。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述至少一个系杆包括至少一个凹口,且在所述至少一个凹口中执行激光切割。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述引线框架还包括与裸片焊盘续连的引线,并且在模制期间所述裸片焊盘通过所述引线连接到框架。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述方法还包括:
在模制之后,通过切穿引线将功率半导体封装体从框架分离。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,使用具有可收回销的模制工具执行模制,其中,所述可收回销被配置为将裸片焊盘固定在位,并且所述可收回销在模制期间被收回。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述方法还包括:
在激光切割之前,将电连接器耦合到半导体裸片,其中,电连接器包括连接导线、带或接触夹。
11.一种功率半导体封装体,包括:
裸片焊盘,其包括至少一个系杆残段,其中,切割表面被布置在所述至少一个系杆残段的端部处,
半导体裸片,其附接到裸片焊盘,以及
包封物,其包封半导体裸片,其中,包封物完全覆盖切割表面,以及
其中,切割表面包括通过激光切割制造的微结构。
12.根据权利要求11所述的功率半导体封装体,其中,所述至少一个系杆残段面对包封物的第一侧向侧,以及
其中,在第一侧向侧处没有金属部分从包封物暴露。
13.根据权利要求11或12所述的功率半导体封装体,其中,所述功率半导体封装体还包括:
至少一个通孔,其延伸穿过裸片焊盘,其中,所述通孔填充有包封物的材料,并且所述通孔包括另外的切割表面,所述另外的切割表面包括通过激光切割制造的微结构。
14.根据权利要求11-13中任一项所述的半导体封装体,其中,所述至少一个系杆残段包括凹口,并且所述切割表面被布置在所述凹口中。
15.根据权利要求11-14中任一项所述的半导体封装体,其中,所述切割表面没有任何毛刺。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111191664.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造