[发明专利]一种高分子材料镀膜工艺

说明书

一种高分子材料镀膜工艺，包括镀氮氧化硅膜层步骤，在待加工件表面镀氮氧化硅膜层作为后续镀膜层的打底层，镀氮氧化硅膜层步骤包括如下子步骤：A1、向镀膜腔室中通入氩气和氮气的混合气体，氩气：氮气为1:8‑3:1；A2、调整真空度为0.1‑1.33Pa；A3、打开硅靶电源对待加工件进行镀膜，镀膜的膜层厚度为2nm‑200nm，此膜层作为氮氧化硅膜层与待加工件高分子材料层的界面结合层。本发明用氮氧化硅膜层作为打底层，不会偏黄，膜层小于20nm则几乎无任何色相，不会改变待加工件的颜色，膜层厚度大于20nm，则打底层本身就可以作为光学膜系设计中的高折射率膜层。

技术领域

本发明涉及表面处理技术领域，尤其是一种高分子材料镀膜工艺。

背景技术

高分子材料作为与钢铁和玻璃陶瓷并列的重要基础材料，与人们的日常生活密切相关，高分子材料独特的结构和易改性、易加工特点，使其具有其他材料不可比拟、不可取代的优异性能，从而广泛用于科学技术、国防建设和国民经济各个领域，并已成为现代社会生活中衣食住行用各个方面不可缺少的材料，目前，国内外产线实施的高分子材料镀膜工艺多为NCVM工艺和其他常规镀光学膜工艺；

NCVM工艺：目前市面上常见的镀膜工艺，其做法通常是在高分子材料(如UV油漆、UV油墨、塑胶片材)表面蒸镀一层铟、锡或铟锡合金(膜厚通常在20-2000nm之间)，然后在蒸镀的金属层表面涂覆一层UV油漆或者一层PU+一层UV对金属层进行保护，利用金属层的高反射率得到具有金属外观效果的涂层体系。该工艺方法只能做有限的金属效果，不能得到光学增亮效果或者光学幻彩效果，且该方法必须在蒸镀金属后加高分子层对蒸镀金属进行保护。

高分子材料常规镀光学膜工艺：该方法通常是在高分子材料(如UV油漆、UV油墨、塑胶片材)表面蒸镀/溅射镀一层硅、一氧化硅、硅+一氧化硅混合物、硅+一氧化硅+二氧化硅混合物作为附着力打底层(膜厚通常在1-10nm之间)，然后在硅或硅氧打底层上面蒸镀/溅射镀折射率透明材料(通常是氧化硅、氧化铌、氧化锆、氧化钛等)的复合叠加膜层(折射率膜层厚度范围可以从50nm-2000nm之间)作为光学增反或者增透膜层，然后在光学膜层表面涂覆高分子材料对光学膜层进行保护，利用高低折射率材料的光学搭配得到具有光学增亮效果或者光学幻彩的效果。该工艺方法只能用硅或硅氧混合材料打底，会导致镀光学膜层之前待加工件就已经发黄，且透过率也会下降。该方法打底采用硅或硅氧混合材料打底后，对表面的光学膜层支撑不够，导致所得到的光学膜层耐磨性能不好，所以，根据此状况，需设计一种高分子材料镀膜工艺。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种高分子材料镀膜工艺。

本发明解决其技术问题是采取以下技术方案实现的：

一种高分子材料镀膜工艺，包括镀氮氧化硅膜层步骤，在待加工件表面镀氮氧化硅膜层作为后续镀膜层的打底层，所述氮氧化硅膜层中，氧和氮的原子数比例范围为1:20-1:1。

优选的，所述氮氧化硅膜层中，所述镀氮氧化硅膜层步骤包括如下子步骤：

A1’、向镀膜腔室中通入氩气、氧气和氮气，氧和氮的原子数比例范围为1:20-1:1；

A2’、调整真空度为0.1-1.33Pa；

A3’、打开硅靶电源对待加工件进行镀膜，镀膜的膜层厚度为2nm-200nm，此膜层作为氮氧化硅膜层与待加工件高分子材料层的界面结合层。

优选的，包括镀氮氧化硅膜层步骤后的镀光学膜层步骤，镀光学膜层步骤包括镀低折射率膜层子步骤和镀高折射率膜层子步骤，所述第折射率子步骤包括如下步骤：

B1、向镀膜腔室中通入氩气和氮气的混合气体，氩气：氮气为1:8-3:1；

B2、打开硅靶电源对待加工件进行镀膜，镀膜的膜层厚度为10nm-200nm氧化硅膜层，此氧化硅膜层膜层作为光学膜层中的低折射率膜层。