[发明专利]堆叠式FPGA的制作方法以及堆叠式FPGA在审

专利信息
申请号: 202111199618.1 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN114068336A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 侯彬;谢永宜 申请(专利权)人: 西安紫光国芯半导体有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L25/065;G06F30/347
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 黎坚怡
地址: 710000 陕西省西安市西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 堆叠 fpga 制作方法 以及
【权利要求书】:

1.一种堆叠式FPGA的制作方法,其特征在于,所述方法包括:

对FPGA的功能电路进行分类,至少得到第一电路和第二电路,所述第一电路以及所述第二电路的参数信息不同;

将所述第一电路采用第一种制作工艺进行制作,得到至少一个第一FPGA晶圆;

将所述第二电路采用第二种制作工艺进行制作,得到至少一个第二FPGA晶圆;

将至少一个所述第一FPGA晶圆和至少一个所述第二FPGA晶圆层叠设置,得到堆叠式FPGA。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对FPGA的功能电路进行分类,至少得到第一电路和第二电路,包括:

根据功能电路的参数信息,对FPGA的功能电路进行分类,至少得到第一电路和第二电路;

所述参数信息至少包括以下任意一项或组合:功能电路的设计需求信息、功能电路的性能稳定性与制作工艺要求的关系信息、功能电路的属性信息。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述第一种制作工艺与所述第二种制作工艺的纳米级别不相同。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述将至少一个所述第一FPGA晶圆和至少一个所述第二FPGA晶圆层叠设置,得到堆叠式FPGA,包括:

基于3DIC封装技术或者2.5D封装技术将至少一个所述第一FPGA晶圆和至少一个所述第二FPGA晶圆整合或集成,得到所述堆叠式FPGA。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述第一电路包括可配置逻辑电路、专用SRAM存储器、用户配置逻辑电路、编码器、解码器和Digital IP中的至少一种;

所述第二电路包括可配置输入输出电路、Analog IP电路、锁相环、串行电路、解串行电路、通用输入/输出电路、存储器、熔丝和电感线圈中的至少一种功能电路。

6.一种堆叠式FPGA,其特征在于,所述堆叠式FPGA包括:

第一FPGA晶圆,所述第一FPGA晶圆上设置有第一电路;

第二FPGA晶圆,所述第二FPGA晶圆上设置有第二电路;所述第一电路以及所述第二电路的参数信息不同;

其中,所述第一FPGA晶圆和所述第二FPGA晶圆层叠连接设置,组成所述堆叠式FPGA。

7.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,

所述第一电路包括可配置逻辑电路、专用SRAM存储器、用户配置逻辑电路、编码器、解码器和Digital IP中的至少一种;

所述第二电路包括可配置输入输出电路、Analog IP电路、锁相环、串行电路、解串行电路、通用输入/输出电路、存储器、熔丝和电感线圈中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,

所述第一FPGA晶圆和所述第二FPGA晶圆的制作工艺的纳米级别不同。

9.根据权利要求8所述的堆叠式FPGA,其特征在于,

所述第一FPGA晶圆的制作工艺的纳米级别为12纳米、22纳米或28纳米;

所述第二FPGA晶圆的制作工艺的纳米级别为40纳米或65纳米。

10.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,

所述第一FPGA晶圆和所述第二FPGA晶圆采用2.5D或3DIC封装技术层叠设置,以得到所述堆叠式FPGA。

11.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,

所述第一FPGA晶圆以及所述第二FPGA晶圆至少为二;

所述第一FPGA晶圆与所述第二FPGA晶圆层叠间隔设置,且互相连接;或者,

至少两个所述第一FPGA晶圆层叠设置,至少两个所述第二FPGA晶圆层叠设置,层叠设置的至少两个所述第一FPGA晶圆与层叠设置的至少两个所述第二FPGA晶圆层叠设置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安紫光国芯半导体有限公司,未经西安紫光国芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111199618.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top