[发明专利]堆叠式FPGA的制作方法以及堆叠式FPGA在审
申请号: | 202111199618.1 | 申请日: | 2021-10-14 |
公开(公告)号: | CN114068336A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 侯彬;谢永宜 | 申请(专利权)人: | 西安紫光国芯半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L25/065;G06F30/347 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 黎坚怡 |
地址: | 710000 陕西省西安市西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 堆叠 fpga 制作方法 以及 | ||
1.一种堆叠式FPGA的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
对FPGA的功能电路进行分类,至少得到第一电路和第二电路,所述第一电路以及所述第二电路的参数信息不同;
将所述第一电路采用第一种制作工艺进行制作,得到至少一个第一FPGA晶圆;
将所述第二电路采用第二种制作工艺进行制作,得到至少一个第二FPGA晶圆;
将至少一个所述第一FPGA晶圆和至少一个所述第二FPGA晶圆层叠设置,得到堆叠式FPGA。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对FPGA的功能电路进行分类,至少得到第一电路和第二电路,包括:
根据功能电路的参数信息,对FPGA的功能电路进行分类,至少得到第一电路和第二电路;
所述参数信息至少包括以下任意一项或组合:功能电路的设计需求信息、功能电路的性能稳定性与制作工艺要求的关系信息、功能电路的属性信息。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述第一种制作工艺与所述第二种制作工艺的纳米级别不相同。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述将至少一个所述第一FPGA晶圆和至少一个所述第二FPGA晶圆层叠设置,得到堆叠式FPGA,包括:
基于3DIC封装技术或者2.5D封装技术将至少一个所述第一FPGA晶圆和至少一个所述第二FPGA晶圆整合或集成,得到所述堆叠式FPGA。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述第一电路包括可配置逻辑电路、专用SRAM存储器、用户配置逻辑电路、编码器、解码器和Digital IP中的至少一种;
所述第二电路包括可配置输入输出电路、Analog IP电路、锁相环、串行电路、解串行电路、通用输入/输出电路、存储器、熔丝和电感线圈中的至少一种功能电路。
6.一种堆叠式FPGA,其特征在于,所述堆叠式FPGA包括:
第一FPGA晶圆,所述第一FPGA晶圆上设置有第一电路;
第二FPGA晶圆,所述第二FPGA晶圆上设置有第二电路;所述第一电路以及所述第二电路的参数信息不同;
其中,所述第一FPGA晶圆和所述第二FPGA晶圆层叠连接设置,组成所述堆叠式FPGA。
7.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,
所述第一电路包括可配置逻辑电路、专用SRAM存储器、用户配置逻辑电路、编码器、解码器和Digital IP中的至少一种;
所述第二电路包括可配置输入输出电路、Analog IP电路、锁相环、串行电路、解串行电路、通用输入/输出电路、存储器、熔丝和电感线圈中的至少一种。
8.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,
所述第一FPGA晶圆和所述第二FPGA晶圆的制作工艺的纳米级别不同。
9.根据权利要求8所述的堆叠式FPGA,其特征在于,
所述第一FPGA晶圆的制作工艺的纳米级别为12纳米、22纳米或28纳米;
所述第二FPGA晶圆的制作工艺的纳米级别为40纳米或65纳米。
10.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,
所述第一FPGA晶圆和所述第二FPGA晶圆采用2.5D或3DIC封装技术层叠设置,以得到所述堆叠式FPGA。
11.根据权利要求6所述的堆叠式FPGA,其特征在于,
所述第一FPGA晶圆以及所述第二FPGA晶圆至少为二;
所述第一FPGA晶圆与所述第二FPGA晶圆层叠间隔设置,且互相连接;或者,
至少两个所述第一FPGA晶圆层叠设置,至少两个所述第二FPGA晶圆层叠设置,层叠设置的至少两个所述第一FPGA晶圆与层叠设置的至少两个所述第二FPGA晶圆层叠设置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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