[发明专利]测量系统及测量DOI分辨率的方法在审

专利信息
申请号: 202111205005.4 申请日: 2021-10-15
公开(公告)号: CN115980818A 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 汪飞;程冉;肖鹏;谢庆国 申请(专利权)人: 合肥锐世数字科技有限公司
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 苗娟
地址: 230031 安徽省合肥市中国(安徽)自由贸易试验*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 测量 系统 doi 分辨率 方法
【说明书】:

发明的一种测量系统及测量DOI分辨率的方法,测量系统包括准直装置、支撑装置和移动装置,其中,准直装置包括第一载物台,第一载物台用于承载电路板、放射源和准直晶体;支撑装置包括第二载物台,第二载物台用于承载待测探测器;移动装置用于承载准直装置和支撑装置,并使准直装置和支撑装置在移动装置上产生相对位移;测量方法包括:通过所述移动装置调整准直探测器与待测探测器的间距,测量不同位置的DOI分辨率。本发明能够保证放射源与准直晶体的同步移动,方便、准确的实现DOI测量。

技术领域

本发明涉及高能光子测量技术领域,具体涉及一种测量系统及测量DOI分辨率的方法。

背景技术

在高能光子成像应用中,会对高能光子的飞行方向以及在晶体内的沉积情况进行探测,比如在正电子发射计算机断层成像(Positron Emission Computed Tomography,PET)系统中,由于正电子湮灭后产生一对能量相等、飞行方向相反的伽马光子,采用闪烁晶体将γ光子转换为可见光信号,每一个PET探测器内的闪烁晶体都有一定的长度,即有一定的深度,因此γ光子与闪烁晶体反应时不会仅仅只在晶体表面沉积,而是在整个晶体长度上都会沉积,即存在沉积深度(Depth of Interaction,DOI)。由于在重建时,将所有沉积的γ光子都假设在晶体表面,这将导致在图像重建时出现图像变形以及空间分辨率恶化的问题,因此DOI测量尤为重要。

在DOI测量时需要采用准直装置,而现有技术中采用的准直装置容易出现测量精度不够、射源与准直晶体不能同步移动、设备复杂等问题。

背景技术部分的内容仅仅是公开发明人所知晓的技术,并不当然代表本领域的现有技术。

发明内容

本发明提出的一种测量系统及其测量DOI分辨率的方法,能够解决上述至少一种问题。

为实现上述目的,本发明采用了以下技术方案:

一方面,本申请提出一种测量系统,包括准直装置、支撑装置和移动装置;其中,准直装置,包括第一载物台,所述第一载物台用于承载电路板、放射源和准直晶体;支撑装置,包括第二载物台,所述第二载物台用于承载待测探测器;移动装置,用于承载所述准直装置和所述支撑装置,并使所述准直装置和所述支撑装置在所述移动装置上产生相对位移。

根据本申请的一个实施例,所述准直装置还包括位移台,其中,位移台用于提供在一个或多个方向上的位移;所述第一载物台固定于所述位移台上,所述位移台每次运动时所述放射源和所述准直晶体之间的相对位置不变。

根据本申请的一个实施例,所述位移台包括:第一方向位移部,沿第一方向滑动;第二方向位移部,沿第二方向滑动,所述第二方向不同于所述第一方向;第二连接件,所述第二连接件连接于所述第一方向位移部和所述第二方向位移部之间。

根据本申请的一个实施例,所述第一方向位移部上设置有用于测量沿所述第一方向移动距离的刻度。

根据本申请的一个实施例,所述第二方向位移部上设置有用于测量沿所述第二方向移动距离的刻度。

根据本申请的一个实施例,所述准直装置还包括第一连接件,所述第一载物台固定于所述第一连接件上,所述第一连接件固定于所述位移台上。

根据本申请的一个实施例,所述第一连接件包括:第一侧壁,固定于所述位移台;第一底壁,所述第一载物台固定于所述第一底壁上。

根据本申请的一个实施例,所述第一连接件的第一底壁上设置有凹槽固定孔,用于固定所述第一载物台。

根据本申请的一个实施例,所述第一连接件包括:第一侧壁,固定于所述位移台;第一顶壁,设置有至少两个长型通孔,所述第一载物台固定于所述第一顶壁上,并通过所述长型通孔调节所述第一载物台的位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥锐世数字科技有限公司,未经合肥锐世数字科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111205005.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top