[发明专利]一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置

权利要求书

1.一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，其特征在于：

该装置包括：动力源(1)、万向联轴节(2)、研磨工具(3)、待研工件(4)、柔性平台(5)；

所述动力源(1)用于输出研磨所需的旋转运动及上下往复移动；所述万向联轴节(2)一端连接动力源(1)，另一端连接研磨工具(3)；所述柔性平台(5)位于研磨工具(3)下方；所述柔性平台(5)包括动平台(51)、钢球(52)、圆柱销(53)、静平台(54)、软性泡沫(55)和固定座(56)；所述待研工件(4)固定于柔性平台(5)的动平台(51)上；所述动平台(51)位于静平台(54)的上方，由钢球(52)支撑在静平台(54)上；所述动平台(51)可相对静平台(54)在水平面内任意方向平动，平动范围通过圆柱销(53)限制；所述圆柱销(53)固定于静平台(54)上；所述静平台(54)与软性泡沫(55)上面连接，静平台(54)可沿任意方向小幅度倾斜；所述软性泡沫(55)连接于固定座(56)内，通过其柔软性实现所述静平台(54)沿任意方向的小幅度倾斜。

2.根据权利要求1所述的一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，其特征在于：

所述静平台(54)粘接于软性泡沫(55)上面。

3.根据权利要求1所述的一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，其特征在于：

所述软性泡沫(55)粘接于固定座(56)内。

4.根据权利要求1所述的一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，其特征在于：

所述钢球(52)包括多个，设置于所述静平台(54)上表面的凹槽内，且其部分突出于静平台(54)上表面。

5.根据权利要求1所述的一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，其特征在于：

所述研磨装置的研磨方式为立式，待研工件(4)和研磨工具(3)的重力变形对研磨精度无影响。

6.根据权利要求1所述的一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，其特征在于：

所述的待研工件(4)替换成可研外圆的研磨工具，研磨工具(3)替换成需研外圆的待研工件，以实现对高精度外圆的精密研磨。