[发明专利]一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置在审

专利信息
申请号: 202111212219.4 申请日: 2021-10-18
公开(公告)号: CN113814818A 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 安祥波;余伦;高七一;陈智明;王琪;辜勇;叶小俊 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: B24B5/48 分类号: B24B5/48;B24B27/00;B24B41/06;B24B55/00;B24B41/04
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 江亚平
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 针对 高精度 立式 精密 研磨 装置
【说明书】:

发明公开了一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置,属于精密机械制造技术领域,所要解决的技术问题是克服常规卧式研磨技术的不足,设计一种立式的、柔性连接的、可自动跟踪研磨工具微量摆动的、圆周去量均匀的精密研磨装置,包括动力源、万向联轴节、研磨工具、柔性平台,所述动力源提供精密研磨的旋转运动及上下往复移动,所述万向联轴节提供柔性连接,并传递旋转运动与上下往复移动,所述研磨工具实现内孔的高精度研磨,所述柔性平台用于支撑和固定待研磨工件,并自动削弱修研过程中研磨工具的小幅度摆动对研磨精度的影响。

技术领域

本发明属于精密机械制造技术领域,具体涉及一种用于研磨加工高精度内孔,获取高的圆度、圆柱度的立式研磨装置。

背景技术

机械加工中,精密研磨常用于高精度工件的最终加工工序,以获得极高的尺寸精度、表面粗糙度、几何形状精度和位置精度。随着研磨技术的进步,从传统的纯手工研磨发展到机械配合手工研磨,再到纯机械式研磨,研磨精度、研磨效率越来越高,人为因素对加工精度的影响越来越小。目前,在实际生产过程中,纯机械式研磨常用于平面的批量研磨,如单、双面研磨机,而对于内孔、外圆的精密研磨,广泛使用的是机械配合手工研磨,通常由机床夹住工件或研具旋转,手握研具或工件作轴向往复运动,进行卧式研磨。卧式研磨由于受研具或工件重力的影响,上半圆柱面的研磨压力始终会大于下半圆柱面,且研磨砂在重力的作用下,也会逐渐向下半圆柱度堆积,这都将导致外圆或内孔圆周方向去量不均匀,进而影响研磨精度。当工件精度要求达到亚微米级时,重力因素将对研磨精度产生较大影响,变得不可忽视。

基于以上现有技术特点,在研究其不足的基础上,本发明设计了一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置,避免了重力对研磨精度的影响,且研磨工具采用万向联轴节连接、待研工件采用柔性平台支撑,提高了修研过程中研磨工具轴线与待研工件轴线的同轴度,消除了修研过程中研磨工具小幅度摆动对研磨精度的影响。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:克服常规卧式研磨技术的不足,设计一种立式的、柔性连接的、可自动跟随研磨工具小幅度摆动的、圆周去量均匀的、针对高精度内孔的精密研磨装置。

为了实现上述目的,本发明方案如下:

一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置,该装置包括:动力源、万向联轴节、研磨工具、待研工件、柔性平台;所述动力源用于输出研磨所需的旋转运动及上下往复移动;所述万向联轴节一端连接动力源,另一端连接研磨工具;所述柔性平台位于研磨工具下方;所述柔性平台包括动平台、钢球、圆柱销、静平台、软性泡沫和固定座;所述待研工件固定于柔性平台的动平台上;所述动平台位于静平台的上方,由钢球支撑在静平台上;所述动平台可相对静平台在水平面内任意方向平动,平动范围通过圆柱销限制;所述圆柱销固定于静平台上;所述静平台与软性泡沫上面连接,静平台可沿任意方向小幅度倾斜;所述软性泡沫连接于固定座内,通过其柔软性实现所述静平台沿任意方向的小幅度倾斜。

进一步的,所述静平台粘接于软性泡沫上面。

进一步的,所述软性泡沫粘接于固定座内。

进一步的,所述钢球包括多个,设置于所述静平台上表面的凹槽内,且其部分突出于静平台上表面。

进一步的,所述的动力源替换为摇臂钻床或立式镗床。

进一步的,所述的万向联轴节替换为软轴或弹性联轴器。

进一步的,所述研磨装置的研磨方式为立式,待研工件和研磨工具的重力变形对研磨精度无影响。

进一步的,所述的待研工件替换成可研外圆的研磨工具,研磨工具替换成需研外圆的待研工件,以实现对高精度外圆的精密研磨。

本发明与现有技术相比的优点在于:避免了重力对研磨精度的影响,而且研磨工具采用万向联轴节连接、待研工件采用柔性平台支撑,提高了修研过程中研磨工具轴线与待研工件轴线的同轴度,消除了修研过程中研磨工具小幅度摆动对研磨精度的影响。

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